[发明专利]一种X射线探测器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910706450.5 申请日: 2019-08-01
公开(公告)号: CN110308475A 公开(公告)日: 2019-10-08
发明(设计)人: 王宗朋;杜碧 申请(专利权)人: 深圳市安健科技股份有限公司
主分类号: G01T1/20 分类号: G01T1/20
代理公司: 深圳市博锐专利事务所 44275 代理人: 欧阳燕明
地址: 518000 广东省深圳市高新*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 感光层 闪烁体阵列 闪烁体层 基材 吸收率 空间分辨率 成像效果 单次曝光 独立耦合 辐射剂量 依次层叠 运动伪影 低辐射 信噪比 采样 荧光 制备 合成 图像 曝光 优化
【权利要求书】:

1.一种X射线探测器,包括基材和至少两个闪烁体阵列,至少两个所述闪烁体阵列层叠于所述基材上,其特征在于:每个所述闪烁体阵列均包括从下至上依次层叠设置的第一感光层、闪烁体层和第二感光层。

2.根据权利要求1所述的X射线探测器,其特征在于:还包括滤过层,相邻两个所述闪烁体阵列之间设有所述滤过层。

3.根据权利要求2所述的X射线探测器,其特征在于:还包括中间衬底,所述中间衬底的顶部设有所述闪烁体阵列,中间衬底的底部与所述滤过层结合。

4.根据权利要求1所述的X射线探测器,其特征在于:厚度较大的所述闪烁体层位于厚度较小的所述闪烁体层的下方。

5.根据权利要求1所述的X射线探测器,其特征在于:还包括光学胶层,所述闪烁体层的上侧设有所述光学胶层。

6.一种X射线探测器的制备方法,包括权利要求1-5任一项所述的X射线探测器,其特征在于:还包括以下步骤,

S1、基材的上表面生成第一感光层;

S2、在步骤S1生成的第一感光层的上表面直接生成闪烁体层;

S3、在中间衬底的下表面通过磁控溅射生长滤过层;

S4、在步骤S3得到的滤过层的下表面生成第二感光层;

S5、在步骤S4生成的第二感光层与闪烁体层贴合;

S6、在中间衬底上依次层叠第一感光层、闪烁体层和第二感光层;

S7、在位于顶层的第二感光层上铺设金属反射层。

7.根据权利要求6所述的X射线探测器的制备方法,其特征在于:在步骤S7之前,重复步骤S3、S4和S5以制备多个层叠设置的滤过层、中间衬底和闪烁体阵列。

8.根据权利要求6所述的X射线探测器的制备方法,其特征在于:所述基材与第一感光层之间还设有所述金属反射层。

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