[发明专利]基板清洗装置

说明书

本发明提供了一种基板清洗装置。所述基板清洗装置包括一第一过滤器、一第二过滤器、一排水管路及数个保护阀；排水管路包括一主管、一出水管及数个入水管；第一过滤器包括一第一进水口、一第一出水口及至少一个第一排水口，第二过滤器包括一第二进水口、一第二出水口及至少一个第二排水口；主管上设有一出水孔及数个入水孔；第一进水口接入清洗水，第一出水口连接第二进水口，每一第一排水口通过一入水管连接至其对应的入水孔；第二出水口输出过滤后的清洗水，每一第二排水口通过一入水管连接至其对应的入水孔；出水管的一端连接出水孔，另一端排出废水；每一入水管上均设有一保护阀，通过在入水管上设置保护阀，能够保证清洗水得到有效过滤。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种基板清洗装置。

背景技术

在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示器等平板显示器已经逐步取代CRT显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。

显示面板是LCD、OLED的重要组成部分。不论是LCD的显示面板，还是OLED的显示面板，通常都具有一薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)基板。以LCD的显示面板为例，其主要是由TFT基板、彩膜(Color Filter，CF)基板以及配置于两基板间的液晶层和密封框胶(Sealant)所构成，其成型工艺一般包括：前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷路板压合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的运动；中段Cell制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。

目前在平板显示工艺制程中，清洗、去水干燥、涂布、预烘烤、曝光、显影和后烘烤是黄光制程的主要制程单元，其中，清洗单元的作用是除去玻璃基板上的尘埃颗粒(Particle)，去水干燥单元的作用是除去基板上的水分且增加表面的疏水性，涂布单元的作用是在基板上涂一层光阻，预烘烤单元(其常用温度为90-130℃)的作用是除去光阻中的溶剂并增加光阻与基板的黏附性，曝光单元的作用是利用光罩(MASK)在基板上对光阻定义图形，显影单元的作用是使光阻在基板上留下特定图案而显示图形，后烘烤单元的作用图案化的光阻在玻璃基板上进一步固化。

现有技术中，化学成膜前清洗设备(Chemical Vapor Deposition High DensityCleaning，CVD HDC)中的超高压微细颗粒喷淋清洗过滤段(High Pressure Micro JetFilter House，HPMJ Filter House)包括两个过滤器，每一个过滤器均具有排水口，两个过滤器的排水口均连接至一排水管路，现有的排水管路中仅在最终的排水端设有一个排水总阀，而在过滤器的排水口没有阀门，在机台工作时，有一定几率会出现清洗水从一个过滤器的排水口流出，流进另一个过滤器的排水口，再从另一个过滤器的出水口流出，进而导致清洗水未经过滤而直接用于清洗，未过滤水直接用于清洗会带入杂质(Particle)异物至基板，从而造成产品良率下降。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基板清洗装置，能够保证清洗水得到有效过滤，提升清洗效果，保证产品良率。

为实现上述目的，本发明提供了一种基板清洗装置，包括一第一过滤器、一第二过滤器、一排水管路及数个保护阀；

所述排水管路包括一主管、一出水管及数个入水管；所述第一过滤器包括一第一进水口、一第一出水口及至少一个第一排水口，所述第二过滤器包括一第二进水口、一第二出水口及至少一个第二排水口；所述主管上设有一出水孔及数个入水孔；

所述第一进水口接入清洗水，所述第一出水口连接第二进水口，每一第一排水口通过一入水管连接至其对应的入水孔；