[发明专利]浸液回收防扰动装置、浸没头气液循环系统及光刻设备

说明书

本发明实施例提供了一种浸液回收防扰动装置、浸没头气液循环系统及光刻设备，浸液回收防扰动装置包括壳体，形成有气液混合腔，所述气液混合腔的侧壁设置有进液口和出液口；多个气液缓冲体，固定于所述气液混合腔中，用于缓冲气液混合产生的扰动。本发明实施例能够缓冲管道中气液混合产生的扰动，降低管道和浸没头的震动，进而提高曝光精度。

技术领域

本发明涉及半导体制造设备技术领域，尤其涉及一种浸液回收防扰动装置、浸没头气液循环系统及光刻设备。

背景技术

现代半导体集成电路制造以光学光刻设备为基础，利用光学系统把掩模版上的集成电路图形精确地投影到基底的目标区域上。光刻设备一般包括光源系统、光学系统物镜、掩模台系统、对准系统、工件台系统等，对于浸没式光刻设备还包括浸没系统。

目前，浸没式光刻设备一般使用193nm光源，能够实现45nm节点及以下的的集成电路的制造。浸没式光刻系统通过浸没头在物镜镜头最后一片物镜与基底之间的缝隙中填充浸没液，通过特殊设计的气流，保证浸没液不从侧面泄漏出去，以此来增大透镜的数值孔径，提高分辨率和焦深，以便获得更小的特征尺寸。

为避免光刻产生的污染物污染浸没液，需要将浸没液随气体一起抽走，并及时填充新的浸没液。在浸没液随气体抽走的过程中，气液混合容易在管道中产生紊流，使管路和浸没头产生震动，从而使物镜与基底之间浸没液产生震动，导致刻蚀曝光精度降低，甚至产生废片。

发明内容

本发明实施例提供了一种浸液回收防扰动装置、浸没头气液循环系统及光刻设备，能够缓冲管道中气液混合产生的扰动，降低管道和浸没头的震动，进而提高曝光精度。

第一方面，本发明实施例提供了一种浸液回收防扰动装置，包括壳体，形成有气液混合腔，所述气液混合腔的侧壁设置有进液口和出液口；

多个气液缓冲体，固定于所述气液混合腔中，用于缓冲气液混合产生的扰动。

可选的，所述气液缓冲体包括柱状的柔性体，所述柔性体的两端均固定于所述气液混合腔中，且所述柔性体的长度方向与所述进液口的进液方向相垂直。

可选的，所述壳体还形成有排气腔，所述排气腔上设置有排气口，所述排气腔和所述气液混合腔通过隔板隔开；

所述柔性体包括由气液分离膜形成的气液分离管，所述气液分离管的一端固定在所述气液混合腔的底部，另一端固定在所述隔板上并与所述排气腔连通。

可选的，所述柔性体还包括顶部安装硬管、底部安装硬管和柔性引导棒；

所述气液分离管的一端通过所述底部安装硬管固定在所述气液混合腔的底部；

所述气液分离管的另一端通过所述顶部安装硬管固定在所述隔板上；

所述柔性引导棒设置于所述气液分离管中，所述柔性引导棒的一端固定在所述气液混合腔的底部，另一端固定在所述隔板上。

可选的，所述气液分离管的长度大于所述柔性引导棒的长度。

可选的，所述气液分离管的长度为所述柔性引导棒的长度的1.15-1.35倍。

可选的，所述柔性引导棒的直径小于或等于所述气液分离管的半径。

可选的，所述气液分离管的直径为1.5mm～5mm。

可选的，所述柔性引导棒的侧壁开设有多个周向排布，且沿所述柔性引导棒的长度方向延伸的导气槽。

可选的，所述多个柔性体分为多组柔性体组，所述多组柔性体组沿第一方向排布，每组所述柔性体组包括多个沿第二方向排列的所述柔性体，任意相邻两组所述柔性体组中的所述柔性体交错排布，其中，所述第一方向与所述进液口的进液方向相平行，所述第二方向与所述第一方向相垂直。