[发明专利]显示面板、显示装置及其制作方法在审
| 申请号： | 201910677214.5 | 申请日： | 2019-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN110491906A | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | 向明 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/32 | 分类号： | H01L27/32 |
| 代理公司： | 44300 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) | 代理人： | 黄威<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 覆盖层 阴极 阳极 显示面板 发光层 光子 显示区域 显示装置 外部光 透射 子区 穿透能力 电学性能 透明显示 显示效果 图案化 覆盖 膜层 制作 保证 | ||
1.一种显示面板，其特征在于，包括：显示区域，所述显示区域包括：发光子区和外部光透射子区；
所述显示面板包括：
阳极，所述阳极设置于所述发光子区内；
发光层，所述发光层设置于所述阳极上，且位于所述发光子区内；
阴极，所述阴极设置于所述发光层远离所述阳极的一侧上，并覆盖所述显示区域；以及
覆盖层，所述覆盖层设置于所述阴极远离所述发光层的一侧上，且所述覆盖层至少覆盖所述发光子区。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述覆盖层仅覆盖所述发光子区。
3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述覆盖层覆盖所述发光子区和所述外部光透射子区，且位于所述发光子区的所述覆盖层厚度大于位于所述外部光透射子区的所述覆盖层厚度。
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括摄像组件，所述摄像组件设置于所述基板远离所述发光层的一侧上。
5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至4中任一项所述的显示面板。
6.一种显示装置的制作方法，其特征在于，包括：
提供基板，所述基板包括显示区域，所述显示区域包括：发光子区和外部光透射子区；
在所述基板上依次形成阳极、像素定义层、发光层和阴极；以及
在所述阴极远离所述基板的一侧上蒸镀形成覆盖层；
其中，所述发光层形成于所述阳极远离所述基板的一侧上，所述阴极形成于所述发光层远离所述阳极的一侧上，并覆盖所述显示区域，所述覆盖层至少覆盖所述发光子区。
7.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述覆盖层仅覆盖所述发光子区。
8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，蒸镀形成所述覆盖层所采用的掩膜板为精细金属掩膜板。
9.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述覆盖层覆盖所述发光子区和所述外部光透射子区，且位于所述发光子区的所述覆盖层厚度大于位于所述外部光透射子区的所述覆盖层厚度。
10.如权利要求9所述的制作方法，其特征在于，分别通过精细金属掩膜板和开放式掩膜板进行蒸镀制程，形成所述覆盖层。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
