[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 201910676386.0 | 申请日: | 2019-07-25 |
公开(公告)号: | CN111584631A | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | 井野匡贵;加藤浩朗 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/423;H01L21/336 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘英华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
1.一种半导体装置,具备:
第1电极;
第1导电型的第1半导体区域,设置于上述第1电极的上方,与上述第1电极电连接;
第2导电型的第2半导体区域,设置于上述第1半导体区域的上方;
第1导电型的第3半导体区域,选择性地设置于上述第2半导体区域的上方;
栅极电极,在与从上述第1半导体区域朝向上述第2半导体区域的第2方向垂直的第1方向上,隔着栅极绝缘膜而与上述第1半导体区域的一部分、上述第2半导体区域及上述第3半导体区域对置;
第1导电层,隔着第1绝缘层而设置于上述第1半导体区域中,在上述第1导电层与上述第2半导体区域之间及上述第1导电层与上述栅极电极之间设置有上述第1半导体区域的另一部分;以及
第2电极,设置于上述第2半导体区域、上述第3半导体区域及上述栅极电极的上方,与上述第2半导体区域、上述第3半导体区域及上述第1导电层电连接。
2.根据权利要求1所述的半导体装置,
上述第1导电层与上述第2半导体区域之间的上述第2方向上的距离,比上述第1导电层与上述第1电极之间的上述第2方向上的距离短。
3.根据权利要求1所述的半导体装置,
上述栅极电极及上述第1导电层,沿着与上述第2方向及上述第1方向垂直的第3方向延伸,
上述第1导电层的至少一部分位于上述栅极电极的正下方。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,具备:
在上述第1方向上彼此分离的多个上述栅极电极;以及
在上述第1方向上彼此分离的多个上述第1导电层,
相邻的上述栅极电极彼此之间的上述第1方向上的距离,比相邻的上述第1导电层彼此之间的上述第1方向上的距离短。
5.根据权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,具备:
在上述第1方向上彼此分离的多个上述栅极电极;以及
在与上述第2方向垂直且与上述第1方向交叉的第3方向上彼此分离的多个上述第1导电层,
相邻的上述栅极电极彼此之间的上述第1方向上的距离,比相邻的上述第1导电层彼此之间的上述第3方向上的距离短。
6.根据权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,
还具备隔着第2绝缘层设置于上述第1半导体区域中的第2导电层,
上述第2导电层与上述第1导电层电连接,
上述第2导电层的上述第2方向上的长度,比上述第1导电层的上述第2方向上的长度长,
上述第2导电层与上述第2电极接触。
7.根据权利要求6所述的半导体装置,
上述第2导电层包括第1导电部分、及设置于上述第1导电部分的上方的第2导电部分,
上述第2导电部分的上述第1方向上的长度,比上述第1导电部分的上述第1方向上的长度长,
上述第2导电部分与上述第2电极接触。
8.根据权利要求7所述的半导体装置,
上述第1导电部分的上述第1方向上的长度,比上述第1导电层的上述第1方向上的长度长。
9.根据权利要求6所述的半导体装置,
上述第2导电层的下端,与上述第1导电层的下端相比位于靠下方。
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