[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201910676386.0 申请日: 2019-07-25
公开(公告)号: CN111584631A 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 井野匡贵;加藤浩朗 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/423;H01L21/336
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘英华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 半导体 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,具备:

第1电极;

第1导电型的第1半导体区域,设置于上述第1电极的上方,与上述第1电极电连接;

第2导电型的第2半导体区域,设置于上述第1半导体区域的上方;

第1导电型的第3半导体区域,选择性地设置于上述第2半导体区域的上方;

栅极电极,在与从上述第1半导体区域朝向上述第2半导体区域的第2方向垂直的第1方向上,隔着栅极绝缘膜而与上述第1半导体区域的一部分、上述第2半导体区域及上述第3半导体区域对置;

第1导电层,隔着第1绝缘层而设置于上述第1半导体区域中,在上述第1导电层与上述第2半导体区域之间及上述第1导电层与上述栅极电极之间设置有上述第1半导体区域的另一部分;以及

第2电极,设置于上述第2半导体区域、上述第3半导体区域及上述栅极电极的上方,与上述第2半导体区域、上述第3半导体区域及上述第1导电层电连接。

2.根据权利要求1所述的半导体装置,

上述第1导电层与上述第2半导体区域之间的上述第2方向上的距离,比上述第1导电层与上述第1电极之间的上述第2方向上的距离短。

3.根据权利要求1所述的半导体装置,

上述栅极电极及上述第1导电层,沿着与上述第2方向及上述第1方向垂直的第3方向延伸,

上述第1导电层的至少一部分位于上述栅极电极的正下方。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,具备:

在上述第1方向上彼此分离的多个上述栅极电极;以及

在上述第1方向上彼此分离的多个上述第1导电层,

相邻的上述栅极电极彼此之间的上述第1方向上的距离,比相邻的上述第1导电层彼此之间的上述第1方向上的距离短。

5.根据权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,具备:

在上述第1方向上彼此分离的多个上述栅极电极;以及

在与上述第2方向垂直且与上述第1方向交叉的第3方向上彼此分离的多个上述第1导电层,

相邻的上述栅极电极彼此之间的上述第1方向上的距离,比相邻的上述第1导电层彼此之间的上述第3方向上的距离短。

6.根据权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,

还具备隔着第2绝缘层设置于上述第1半导体区域中的第2导电层,

上述第2导电层与上述第1导电层电连接,

上述第2导电层的上述第2方向上的长度,比上述第1导电层的上述第2方向上的长度长,

上述第2导电层与上述第2电极接触。

7.根据权利要求6所述的半导体装置,

上述第2导电层包括第1导电部分、及设置于上述第1导电部分的上方的第2导电部分,

上述第2导电部分的上述第1方向上的长度,比上述第1导电部分的上述第1方向上的长度长,

上述第2导电部分与上述第2电极接触。

8.根据权利要求7所述的半导体装置,

上述第1导电部分的上述第1方向上的长度,比上述第1导电层的上述第1方向上的长度长。

9.根据权利要求6所述的半导体装置,

上述第2导电层的下端,与上述第1导电层的下端相比位于靠下方。

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