[发明专利]描画装置及描画方法

说明书

本发明提供一种能够在信息区域描画所需的信息的描画装置以及描画方法。将以矢量形式记录的图案数据(PD)转换为光栅形式，进而通过接受基于基板(S)的变形的修正处理，生成修正后描画数据(HD)。将表示曝光信息的指定字符数据(RD)合成到修正后描画数据(HD)中并生成最终描画数据(DD)。在曝光单元(3)中，将基于最终描画数据(DD)而进行了调制的激光向基板(S)照射来进行描画处理。预先将候选字符的字符字体进行位图转换并准备为字符数据(CD)，以使字符数据(CD)收敛于以最大预定字符数对显示曝光信息的信息区域进行分割而得到的分割区域的尺寸中。将指定为曝光信息的指定字符置换为准备的字符数据(CD)并合成到信息区域中。

技术领域

本发明涉及一种描画装置以及描画方法，通过基于描画数据向形成有感光体的印刷基板、半导体基板、玻璃基板等(下面，简称为“基板”)照射光，来在该基板上描画图案。

背景技术

已知具有如下曝光装置：通过一边扫描一边向形成有抗蚀剂等感光体的基板照射激光，连续地进行局部的曝光，从而在该基板上描画期望的电路图案。由于这样的曝光装置不使用掩膜，而通过照射基于描画数据进行了调制的激光，从而直接在基板上描画电路图案，因此，该曝光装置已知作为直接描画装置(直描装置)(例如，参照专利文献1、2)。

专利文献1：日本特开2010-204421号公报

专利文献2：日本特开2016-31502号公报

在不使用掩膜的直接描画装置中，对于进行处理的每一张基板，能够比较容易地将批号或曝光的日期等曝光信息嵌入到描画数据中，并作为图案的一部分显示在基板上。即，在使用相同的掩膜对多张基板反复地进行整体曝光的现有的曝光装置中，虽然难以将固有的信息曝光在批号等基板上，但在直接描画装置中，能够比较容易地将固有的信息曝光在这样的基板上。

典型地，当用直接描画装置曝光电路图案时，由设计部门创建电路图案的图案数据，由制造部门对该图案数据进行排版等来生成最终的描画数据并进行描画处理。当由设计部门创建图案数据时，由于不清楚记录什么样的曝光信息，因此，仅确保显示曝光信息的信息区域。然后，在由制造部门进行曝光之前将曝光信息记录在该信息区域中。然而，在由制造部门记录的曝光信息的信息量较多的情况下，会产生在确保的信息区域中不能完全记录所需的曝光信息的问题。

发明内容

本发明鉴于上述问题而提出，其目的在于，提供一种能够在信息区域描画所需的信息的描画装置以及描画方法。

为了解决上述的问题，技术方案1的发明是一种描画装置，通过基于描画数据向形成有感光体的基板照射光，从而在所述基板上描画图案，其特征在于，所述描画装置具有：转换部，获取与所述图案对应的图案数据，将所述图案数据转换为光栅形式并生成初始描画数据；字符数据创建部，对记录在所述信息区域中的候选字符的字符字体进行位图转换并获取字符数据，以使字符数据收敛于以最大预定字符数对预先设定为用于在所述图案中显示信息的区域的信息区域进行分割而得到的分割区域的尺寸中；指定部，指定记录在所述图案中的字符；以及合成部，将与由所述指定部指定的指定字符对应的所述字符数据合成到所述初始描画数据中的所述信息区域并生成最终描画数据。

另外，技术方案2的发明，在技术方案1的发明所述的描画装置中，所述字符数据创建部获取使所述候选字符的字符字体旋转了90°、180°以及270°的字符数据。

另外，技术方案3的发明，在技术方案1的发明所述的描画装置中，所述描画装置还具有修正部，所述修正部根据所述基板的变形来修正所述初始描画数据，所述合成部根据所述基板的变形来修正所述初始描画数据中的所述信息区域的位置，并且不修正与所述指定字符对应的所述字符数据来进行合成。

另外，技术方案4的发明，在技术方案1至技术方案3中任一项发明所述的描画装置中，当所述指定字符的字符数少于所述最大预定字符数时，所述合成部将与所述指定字符对应的所述字符数据合成到所述信息区域的左端、右端、或者中央。