[发明专利]描画装置及描画方法有效
| 申请号: | 201910658758.7 | 申请日: | 2019-07-19 |
| 公开(公告)号: | CN110737179B | 公开(公告)日: | 2022-08-02 |
| 发明(设计)人: | 鉈落信也;八坂智 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 向勇;宋晓宝 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 描画 装置 方法 | ||
1.一种描画装置,通过基于描画数据向形成有感光体的基板照射光,从而在所述基板上描画图案,其特征在于,
所述描画装置具有:
转换部,获取与所述图案对应的图案数据,将所述图案数据转换为光栅形式并生成初始描画数据;
字符数据创建部,对能够记录在信息区域中的多个候选字符的各字符字体进行位图转换并获取各所述候选字符的位图形式的字符数据,以使字符收敛于以最大预定字符数对预先设定为用于在所述图案中显示信息的区域的所述信息区域进行分割而得到的分割区域的尺寸中,并将所述字符数据与对应的所述候选字符相关联地存储于存储部;
指定部,指定记录在所述图案中的字符;
合成部,将与由所述指定部指定的指定字符对应的所述字符数据合成到所述初始描画数据中的所述信息区域并生成最终描画数据;以及
修正部,根据所述基板的变形来修正所述初始描画数据,
所述合成部根据所述基板的变形来修正所述初始描画数据中的所述信息区域的位置,并且不修正与所述指定字符对应的所述字符数据来进行合成。
2.根据权利要求1所述的描画装置,其特征在于,
所述字符数据创建部获取使所述候选字符的字符字体旋转了90°、180°以及270°的字符数据。
3.根据权利要求1或2所述的描画装置,其特征在于,
当所述指定字符的字符数少于所述最大预定字符数时,所述合成部将与所述指定字符对应的所述字符数据合成到所述信息区域的左端、右端、或者中央。
4.根据权利要求1或2所述的描画装置,其特征在于,
当所述指定字符的字符数与所述最大预定字符数不同时,所述合成部放大或缩小与所述指定字符对应的所述字符数据并合成到所述信息区域中。
5.根据权利要求1所述的描画装置,其特征在于,
所述合成部将对显示包含所述指定字符的信息的二维代码进行了位图转换的代码数据不进行修正地合成到所述信息区域中。
6.一种描画方法,通过基于描画数据向形成有感光体的基板照射光,从而在所述基板上描画图案,其特征在于,
所述描画方法具有:
转换工序,获取与所述图案对应的图案数据,将所述图案数据转换为光栅形式并生成初始描画数据;
字符数据创建工序,对能够记录在信息区域中的多个候选字符的各字符字体进行位图转换并获取各所述候选字符的位图形式的字符数据,以使字符收敛于以最大预定字符数对预先设定为用于在所述图案中显示信息的区域的所述信息区域进行分割而得到的分割区域的尺寸中;
存储工序,将各所述候选字符的位图形式的字符数据与对应的所述候选字符相关联地存储于存储部;
指定工序,指定记录在所述图案中的字符;
合成工序,将与在所述指定工序中指定的指定字符对应的所述字符数据合成到所述初始描画数据中的所述信息区域并生成最终描画数据;
修正工序,根据所述基板的变形来修正所述初始描画数据,
在所述合成工序中,根据所述基板的变形来修正所述初始描画数据中的所述信息区域的位置,并且不修正与所述指定字符对应的所述字符数据来进行合成。
7.根据权利要求6所述的描画方法,其特征在于,
在所述字符数据创建工序中,获取使所述候选字符的字符字体旋转了90°、180°以及270°的字符数据。
8.根据权利要求6或7所述的描画方法,其特征在于,
在所述合成工序中,当所述指定字符的字符数少于所述最大预定字符数时,将与所述指定字符对应的所述字符数据合成到所述信息区域的左端、右端、或者中央。
9.根据权利要求6或7所述的描画方法,其特征在于,
在所述合成工序中,当所述指定字符的字符数与所述最大预定字符数不同时,放大或缩小与所述指定字符对应的所述字符数据并合成到所述信息区域中。
10.根据权利要求6所述的描画方法,其特征在于,
在所述合成工序中,将对显示包含所述指定字符的信息的二维代码进行了位图转换的代码数据不进行修正地合成到所述信息区域中。
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