[发明专利]一种自屏蔽梯度线圈的设计方法有效
申请号: | 201910658436.2 | 申请日: | 2019-07-22 |
公开(公告)号: | CN110456293B | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 李良安;陈琳鑫;安学亮;陈春霞 | 申请(专利权)人: | 惠仁望都医疗设备科技有限公司 |
主分类号: | G01R33/385 | 分类号: | G01R33/385;G01R33/421 |
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地址: | 072450 河北省*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 屏蔽 梯度 线圈 设计 方法 | ||
1.一种自屏蔽梯度线圈的设计方法,其特征在于:步骤如下:
步骤一:导入主梯度线圈网格,将主梯度线圈区域分为三维三角形网格节点;
步骤二:将成像区域直径360mm球体表面均匀划分156个目标点,采用MATLAB软件读取三角网格的各个顶点和面的坐标值,优化顶点和面的排布顺序,确定成像区域目标点坐标值;
步骤三:根据成像区域目标点坐标值计算主线圈在成像区域理想梯度磁场值;
步骤四:根据边界元法,设置导线尺寸,计算源点区域通电导线对成像区域目标点的磁场贡献值;
步骤五:通过Quadprog二次规划方法,约束主线圈的功耗做小,计算出主线圈上电流的大小和方向;
步骤六:通过流函数法得到主线圈的实际绕线形状;
步骤七:根据主线圈的实际绕线形状,通过奥萨伐尔公式计算出成像区域目标点和屏蔽区域目标点磁场值;
步骤八:以屏蔽区域目标点磁场值作为屏蔽线圈在屏蔽区域的理想磁场值,以主线圈在理想区域设计值的1/5作为屏蔽线圈在成像区域的理想磁场值;
步骤九:导入屏蔽线圈的网格,排序网格顶点和三角面;
步骤十:根据边界元法和给定的导线尺寸,计算源点区域通电导线对成像区域目标点的磁场贡献值;
步骤十一:通过Quadprog二次规划方法,约束屏蔽线圈的功耗最小,计算出屏蔽线圈上电流的大小和方向;
步骤十二:通过流函数法得到屏蔽线圈的实际绕线形状。
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