[发明专利]基板处理装置在审
申请号: | 201910648801.1 | 申请日: | 2019-07-18 |
公开(公告)号: | CN110943004A | 公开(公告)日: | 2020-03-31 |
发明(设计)人: | 桑原丈二;稻垣幸彦;村井征尔 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 陈甜甜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 | ||
1.一种基板处理装置,对基板进行处理,所述装置包含以下要素,即为:分度区块,具备至少两台用以在与高架行驶式无人搬送车之间交接收纳基板的载具的载具载置部,为了从载具载置部的载具取出基板且将基板收纳到载具载置部的载具中,而针对所述每个载具载置部具备分度机器人,所述分度机器人具有可向水平方向进退、在水平面内回转、向垂直方向升降的臂,且水平方向的位置相对于所述各载具载置部固定;
桥接区块,与所述分度区块邻接配置;及
处理区块,与所述桥接区块邻接配置,具有多个阶层,所述多个阶层积层有具备至少1个以上的处理单元的阶层;且
所述分度区块的高度未达所述处理区块的最上层,
所述桥接区块具备:缓冲部,配置在所述分度区块侧且可利用所述分度机器人交接基板的位置,在高度方向上具备用以载置基板的多级台;通路部,配置在所述处理区块侧且可在与所述处理区块之间交接基板的位置,在所述处理区块的阶层方向上,从所述处理区块中的多个阶层的最下层跨及至最上层而具备用以载置基板的多级台;及两台桥接机械人,具有在与所述通路部之间交接基板的臂。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中
所述处理区块针对所述多个阶层中的每特定阶层数具备在所述处理单元及所述通路部交接基板的1台搬送机械人,
所述通路部由针对所述多个阶层中的每特定阶层数而分离配置的多个分离通路部构成。
3.根据权利要求2所述的基板处理装置,其中
所述各分离通路部中配置在上方的分离通路部相对于所述多个阶层配置在靠向下方,配置在中央的分离通路部相对于所述多个阶层配置在中央,配置在下方的分离通路部相对于所述多个阶层配置在靠向上方。
4.根据权利要求2所述的基板处理装置,其中
所述处理区块省略将针对每所述特定阶层数而配置的所述搬送机械人彼此隔开的隔间。
5.根据权利要求3所述的基板处理装置,其中
所述处理区块省略将针对每所述特定阶层数而配置的所述搬送机械人彼此隔开的隔间。
6.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中
所述处理单元具备对基板供给处理液的功能,从配置在下部且贮存所述处理液的处理液箱对所述各阶层的处理单元供给处理液的泵及过滤器,配置在较所述多个阶层的最上层更靠下方。
7.根据权利要求2所述的基板处理装置,其中
所述处理单元具备对基板供给处理液的功能,从配置在下部且贮存所述处理液的处理液箱对所述各阶层的处理单元供给处理液的泵及过滤器,配置在较所述多个阶层的最上层更靠下方。
8.根据权利要求3所述的基板处理装置,其中
所述处理单元具备对基板供给处理液的功能,从配置在下部且贮存所述处理液的处理液箱对所述各阶层的处理单元供给处理液的泵及过滤器,配置在较所述多个阶层的最上层更靠下方。
9.根据权利要求4所述的基板处理装置,其中
所述处理单元具备对基板供给处理液的功能,从配置在下部且贮存所述处理液的处理液箱对所述各阶层的处理单元供给处理液的泵及过滤器,配置在较所述多个阶层的最上层更靠下方。
10.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中
所述分度区块在与所述各载具载置部对向的位置配置有所述各分度机器人。
11.根据权利要求2所述的基板处理装置,其中
所述分度区块在与所述各载具载置部对向的位置配置有所述各分度机器人。
12.根据权利要求3所述的基板处理装置,其中
所述分度区块在与所述各载具载置部对向的位置配置有所述各分度机器人。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造