[发明专利]感放射线性组合物、硬化膜、硬化膜的制造方法及显示元件

说明书

本发明提供一种感放射线性组合物、硬化膜、硬化膜的制造方法及显示元件。感放射线性组合物，其含有聚合物成分(A)及感放射线性化合物(B)，所述聚合物成分(A)在同一或不同的聚合物中具有源自马来酰亚胺的结构单元(I)及含有式(II‑1)所表示的基的结构单元(II)。[R¹、R²、R³分别独立地为氢原子、烷基、脂环式烃基、芳基、这些基所具有的氢原子的一部分或全部经取代基所取代的基、或者‑SiR^A₃；R^A分别独立地为碳数1～10的烷基；Q¹为酯键、或者‑Ar¹‑O‑所表示的二价基(Ar¹为亚芳基、或者亚芳基所具有的氢原子的一部分或全部经取代基所取代的基)]。

技术领域

本发明涉及一种感放射线性组合物及其用途，尤其涉及一种感放射性组合物、硬化膜、硬化膜的制造方法及显示元件。

背景技术

从前，感放射线性组合物一直用于形成显示元件所具有的硬化膜，所述硬化膜为层间绝缘膜、保护膜及隔离件(spacer)等具有图案形状的硬化膜(例如参照专利文献1)。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2012-159601号公报

发明内容

发明所要解决的问题

伴随显示元件的高性能化，显示元件需要大量的电流，因此对于所述硬化膜，要求低介电特性。另外，就硬化膜形成时的作业性等观点而言，对于感放射线性组合物，期望保存后的放射线感度的下降少而保存稳定性优异、涂布后延迟(Post Coating Delay，PCD)裕度及曝光后延迟(Post Exposure Delay，PED)裕度大。

即，本发明的课题在于提供一种保存稳定性优异、PCD裕度及PED裕度高的感放射线性组合物，其可形成相对介电常数低的硬化膜。

解决问题的技术手段

本发明人们为了解决所述问题而进行了努力研究。其结果发现，通过具有以下构成的感放射线性组合物而可解决所述问题，从而完成了本发明。本发明例如涉及以下的[1]～[9]。

[1]一种感放射线性组合物，其含有聚合物成分(A)，所述聚合物成分(A)在同一或不同的聚合物中具有源自马来酰亚胺的结构单元(I)及含有下述式(II-1)所表示的基的结构单元(II)；以及感放射线性化合物(B)。

[化1]

[式(II-1)中，R¹、R²及R³分别独立地为氢原子、烷基、脂环式烃基、芳基、这些基所具有的氢原子的一部分或全部经取代基所取代的基、或者-SiR^A₃；R^A分别独立地为碳数1～10的烷基；Q¹为酯键或者-Ar¹-O-所表示的二价基(Ar¹为亚芳基、或者亚芳基所具有的氢原子的一部分或全部经取代基所取代的基)]

[2]根据所述[1]所记载的感放射线性组合物，其中所述聚合物成分(A)在与具有选自所述结构单元(I)及所述结构单元(II)中的至少一种结构单元的聚合物同一或不同的聚合物中，还具有含有交联性基的结构单元(III)。

[3]根据所述[2]所记载的感放射线性组合物，其中所述交联性基为选自氧杂环丙基、氧杂环丁基及(甲基)丙烯酰基中的至少一种基。