[发明专利]感放射线性组合物、硬化膜、硬化膜的制造方法及显示元件在审

专利信息
申请号: 201910639583.5 申请日: 2019-07-16
公开(公告)号: CN110794648A 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 工藤和生;成子朗人;松本晃幸 申请(专利权)人: JSR株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/027;G09F9/00;G02B1/14
代理公司: 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 代理人: 罗英;臧建明
地址: 日本东京港区东新桥一丁*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 聚合物 氢原子 感放射线性组合物 烷基 亚芳基 硬化膜 感放射线性 马来酰亚胺 脂环式烃基 显示元件 二价基 芳基 碳数 酯键 制造
【权利要求书】:

1.一种感放射线性组合物,其特征在于,含有:

聚合物成分(A),所述聚合物成分(A)在同一或不同的聚合物中具有源自马来酰亚胺的结构单元(I)及含有下述式(II-1)所表示的基的结构单元(II);以及

感放射线性化合物(B),

式(II-1)中,R1、R2及R3分别独立地为氢原子、烷基、脂环式烃基、芳基、这些基所具有的氢原子的一部分或全部经取代基所取代的基、或者-SiRA3;RA分别独立地为碳数1~10的烷基;Q1为酯键或者-Ar1-O-所表示的二价基,Ar1为亚芳基、或者亚芳基所具有的氢原子的一部分或全部经取代基所取代的基。

2.根据权利要求1所述的感放射线性组合物,其特征在于,所述聚合物成分(A)在与具有选自所述结构单元(I)及所述结构单元(II)中的至少一种结构单元的聚合物同一或不同的聚合物中,还具有含有交联性基的结构单元(III)。

3.根据权利要求2所述的感放射线性组合物,其特征在于,所述交联性基为选自氧杂环丙基、氧杂环丁基及(甲基)丙烯酰基中的至少一种基。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的感放射线性组合物,其特征在于,所述式(II-1)所表示的基中,R1、R2及R3分别独立地为碳数1~20的烷基。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的感放射线性组合物,其特征在于,所述感放射线性化合物(B)为感放射线性酸产生剂(B1)或感放射线性碱产生剂(B2)。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的感放射线性组合物,其特征在于,所述感放射线性化合物(B)为选自肟磺酸酯化合物及磺酰亚胺化合物中的至少一种感放射线性酸产生剂。

7.一种硬化膜,其特征在于,其由如权利要求1至6中任一项所述的感放射线性组合物形成。

8.一种硬化膜的制造方法,其特征在于,包括:

工序[1],在基板上形成如权利要求1至6中任一项所述的感放射线性组合物的涂膜;

工序[2],对所述涂膜的至少一部分照射放射线;

工序[3],对经放射线照射的所述涂膜进行显影;以及

工序[4],对经显影的所述涂膜进行加热。

9.一种显示元件,其特征在于,包括如权利要求7所述的硬化膜。

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