[发明专利]一种气体传感器的制备方法和装置有效
| 申请号： | 201910630441.2 | 申请日： | 2019-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN110361422B | 公开（公告）日： | 2022-07-08 |
| 发明（设计）人： | 刘宇航;刘秀洁;许诺 | 申请（专利权）人： | 北京机械设备研究所 |
| 主分类号： | G01N27/12 | 分类号： | G01N27/12 |
| 代理公司： | 北京云科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11483 | 代理人： | 张飙 |
| 地址： | 100854 北京市海淀区永*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 气体 传感器 制备 方法 装置 | ||
1.一种气体传感器的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
配置第一种溶液，所述第一种溶液的溶质为NOPF6，所述第一种溶液用于降低气体传感器芯片的电阻；
将所述第一种溶液滴至所述气体传感器芯片表面；
获取所述气体传感器芯片的电阻值；
在所述电阻值与期望电阻值的偏差不在所述预设范围内且所述电阻值大于所述期望电阻值时，再次执行所述将所述第一种溶液滴至气体传感器芯片表面的步骤，或者在所述电阻值与期望电阻值的偏差不在所述预设范围内且所述电阻值小于所述期望电阻值时，将第二种溶液滴至所述气体传感器芯片的表面，并再次获取所述气体传感器芯片的电阻值的步骤，所述第二种溶液为所述第一种溶液中的溶剂的纯溶液，所述第二种溶液用于提高所述气体传感器芯片的电阻；
在所述电阻值与期望电阻值的偏差在预设范围内时，结束制备。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，
在将溶液滴至所述气体传感器芯片的表面时，将所述溶液旋转滴至所述气体传感器芯片的表面。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述将所述溶液旋转滴至所述气体传感器芯片的表面，包括：
控制旋涂设备按照预设方式旋转，并在所述旋涂设备开始旋转时将所述溶液滴至所述气体传感器芯片的表面，所述旋涂设备上固定有所述气体传感器芯片，所述预设方式包括转速和旋转时间。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述转速为800-1200rpm。
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述旋转时间为60s。
6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述溶液为第一种溶液时，所述第一种溶液的体积为12ul；在所述溶液为所述第二种溶液时，所述第二种溶液的体积为3ul。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一种溶液中的溶剂为CH3CN。
8.一种气体传感器的制备装置，其特征在于，所述装置包括存储器和处理器，所述存储器中存储右至少一条程序指令，所述处理器通过加载并执行上述指令以实现如权利要求1至7任一所述的制备方法。
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