[发明专利]一种显示基板和显示面板在审
| 申请号： | 201910621978.2 | 申请日： | 2019-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN110320721A | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | 林万;董殿正;崔晓鹏;张强;王光兴;许文鹏;王海旭;王雷阳 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 姜春咸;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 背光模组 显示基板 阵列基板 光线处理层 像素开口 显示面板 背光 薄膜晶体管 光线汇聚 透光显示 黑矩阵 像素 照射 变更 汇聚 | ||
1.一种显示基板，包括背光模组和阵列基板，所述阵列基板设置在所述背光模组的出光侧，其特征在于，还包括光线处理层，所述光线处理层设置在所述背光模组与所述阵列基板之间，用于将所述背光模组发出的光线汇聚至所述阵列基板的像素开口区域，所述像素开口区域为像素的透光显示区。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述光线处理层包括多个超透镜单元，多个所述超透镜单元排布呈阵列，所述阵列基板包括排布呈阵列多个亚像素，所述超透镜单元与所述亚像素一一对应设置。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述超透镜单元包括金属膜和开设在所述金属膜上的多个狭缝，多个所述狭缝的长度方向相互平行，且多个所述狭缝沿垂直于其长度方向的第一方向排布，所述第一方向平行于所述亚像素排布的行方向或列方向。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，任意相邻所述狭缝间的间距相等；在所述第一方向上、从所述超透镜单元的中间向两边、其所述狭缝的宽度线性增加。
5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，相邻所述狭缝间的间距范围为180-220nm。
6.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述狭缝的宽度范围为80-150nm。
7.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述金属膜的厚度范围为400-500nm。
8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述金属膜的材料为二氧化钛。
9.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述超透镜单元的工作波长范围为400-700nm；所述超透镜单元对背光光线进行汇聚的焦距范围为20-40μm。
10.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-9任意一项所述的显示基板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910621978.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：显示面板及其制作方法
- 下一篇：可见光至中红外等离激元异质微腔电致变色器件
