[发明专利]硅衬底蚀刻溶液有效
申请号: | 201910609327.1 | 申请日: | 2019-07-08 |
公开(公告)号: | CN110713836B | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 柳浩成;文暎善;李浚银 | 申请(专利权)人: | OCI有限公司 |
主分类号: | C09K13/06 | 分类号: | C09K13/06 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 吕琳;宋东颖 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 衬底 蚀刻 溶液 | ||
1.一种硅衬底蚀刻溶液,其特征在于,
包含:
无机酸水溶液;
由以下化学式1表示的硅添加剂;以及
由以下化学式3表示的咪唑鎓磷酸盐:
化学式1:
化学式3:
R1至R4各自独立地选自羟基、烷氧基,
R11至R14各自独立地选自C1-C10烷基,
上述硅衬底蚀刻溶液中的上述硅添加剂的含量为100ppm至10000ppm,
上述硅衬底蚀刻溶液中的上述咪唑鎓磷酸盐的含量为100ppm至20000ppm。
2.根据权利要求1所述的硅衬底蚀刻溶液,其特征在于,上述无机酸水溶液为包含选自硫酸、硝酸、磷酸、硅酸、氢氟酸、硼酸、盐酸、高氯酸、磷酸酐、焦磷酸及多磷酸中的至少一种无机酸的水溶液。
3.根据权利要求1所述的硅衬底蚀刻溶液,其特征在于,在25℃的温度下,上述硅衬底蚀刻溶液的pH为3至6.5。
4.根据权利要求1所述的硅衬底蚀刻溶液,其特征在于,在165℃的温度下,上述硅衬底蚀刻溶液的pH为1至6.5。
5.根据权利要求1所述的硅衬底蚀刻溶液,其特征在于,还包含选自氟化氢、氟化铵、酸式氟化铵及氟化氢铵中的至少一种含氟化合物。
6.根据权利要求1所述的硅衬底蚀刻溶液,其特征在于,还包含具有有机类阳离子与氟类阴离子离子结合的形态的含氟化合物。
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