[发明专利]显示面板及其制备方法

权利要求书

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

S10，提供一玻璃基板，在所述玻璃基板上定义出弯折区域，

在所述弯折区域内形成图案化的有机光阻；

S20，对所述玻璃基板无图案化的所述有机光阻覆盖的部分进行刻蚀，使得所述玻璃基板图案化，并在所述弯折区域内形成凸起；

S30，去除图案化的所述有机光阻；

S40，在图案化的所述玻璃基板上形成第一聚酰亚胺薄膜，其中，所述第一聚酰亚胺薄膜在所述弯折区域内的膜层厚度小于其他区域的膜层厚度；

S50，在所述第一聚酰亚胺薄膜上依次形成薄膜晶体管阵列和发光层；

S60，剥离所述玻璃基板；

其中，所述S20包括：在所述玻璃基板的背离所述有机光阻的一侧表面形成保护膜；利用氢氟酸溶液对所述玻璃基板进行刻蚀以得到图案化的所述玻璃基板；去除所述保护膜。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：在所述S50之前，在所述第一聚酰亚胺薄膜上形成阻隔层；在所述阻隔层上形成第二聚酰亚胺薄膜。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，在所述S50中，在所述第二聚酰亚胺薄膜上形成所述薄膜晶体管阵列，在所述薄膜晶体管阵列上形成发光层。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一聚酰亚胺薄膜背离所述玻璃基板的一侧表面为一平整的表面。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述S20中，刻蚀速率的均一度小于10％。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述S40包括：

在所述玻璃基板上涂布聚酰胺酸溶液；

低温烘烤以去除有机溶剂；

升温脱水，发生热酰亚胺化反应，得到所述第一聚酰亚胺薄膜。

7.一种采用如权利要求1～6任意一项所述的制备方法制备的显示面板，其上定义有弯折区域，其特征在于，包括：

第一聚酰亚胺薄膜；

薄膜晶体管阵列，设置于所述第一聚酰亚胺薄膜上；

发光层，设置于所述薄膜晶体管阵列上；其中，

所述第一聚酰亚胺薄膜在所述弯折区域内的膜层厚度小于其他区域的膜层厚度。