[发明专利]加热机构、等离子体腔室及在基片上成膜的方法

说明书

本发明提供了一种加热机构、等离子体腔室及在基片上成膜的方法，加热机构包括：热平台本体、位于热平台本体上的垫圈及气体预热结构。其中，所述待蒸镀基片、所述垫圈、所述热平台本体叠置形成密封空间，且设置所述气体预热结构与所述密封空间相连通。通过在热平台本体上增设垫圈，使得待蒸镀基片、垫圈、热平台本体叠置形成密封空间，进一步向密封空间中引入预热气体，将气体热量传递给待蒸镀基片，可避免基片上各处温度不均一的问题，提高基片上成膜的均匀性。

技术领域

本发明涉及等离子体加工设备技术领域，特别是涉及一种加热机构、等离子体腔室及在基片上成膜的方法。

背景技术

随着显示技术的不断发展，人们对显示屏的各项性能提出了更高的要求。近年来，显示装置，尤其是基于有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)的显示装置成为国内外热门的新兴平面显示产品。OLED显示面板具有自发光、视角广、反应时间短、发光效率高、色域广、工作电压低、面板薄、可制作大尺寸、可制作柔性面板、以及制程简单等特性，而且它还具有低成本的潜力。

OLED器件主要包括层叠设置的阳极、有机发光层和阴极。OLED器件的发光通过像素驱动电路中的晶体管在阳极上施加驱动电压，以在阳极与阴极之间形成电压差。

OLED器件中的各层以及晶体管的各层一般通过将基片置于等离子腔室内，采用PECVD(等离子体增强型化学气相沉积)工艺制成。而实际工艺中基片上各处温度不均一，导致所成的膜层也经常出现厚度不均匀问题，这影响OLED显示面板的可靠性。

发明内容

基于此，有必要提供一种加热机构、等离子体腔室及在基片上成膜的方法。

本发明的一个方面，提供了一种加热机构，用于对待蒸镀基片进行加热，包括：热平台本体；

垫圈，位于所述热平台本体上，其中，所述待蒸镀基片、所述垫圈、所述热平台本体叠置形成密封空间；

以及气体预热结构，所述气体预热结构与所述密封空间相连通。

在其中一个实施例中，还包括若干支撑针；

所述热平台本体沿垂直于所述热平台本体延伸面的方向上开设有第一贯穿孔道，所述气体预热结构通过所述第一贯穿孔道与所述密封空间相连通；

所述支撑针与所述第一贯穿孔道一一对应且沿垂直于所述热平台本体延伸面的方向可移动的设于相应所述第一贯穿孔道中；其中所述垫圈包括用于支撑所述待蒸镀基片的支撑面，各所述支撑针包括高于所述垫圈支撑面的支撑状态以及低于所述垫圈支撑面的收缩状态。

在其中一个实施例中，所述热平台本体沿垂直于所述热平台本体延伸面的方向上开设有第二贯穿孔道；和/或，各所述支撑针内沿垂直于所述热平台本体延伸面的方向上设有第二贯穿孔道；

且所述气体预热结构通过所述第二贯穿孔道与所述密封空间相连通；

优选地，所述热平台本体和各所述支撑针均设有所述第二贯穿孔道，各所述第二贯穿孔道呈阵列排布。

在其中一个实施例中，各所述支撑针内沿垂直于所述热平台本体延伸面的方向上设有第二贯穿孔道，且各所述支撑针还包括支撑头，在所述收缩状态下，所述支撑头位于所述热平台本体与所述垫圈支撑面之间；

并且，所述支撑头上排布有若干个与所述第二贯穿孔道相连通的开孔；

优选地，若干个所述开孔由所述支撑头的中心向外依次倾斜设置。

在其中一个实施例中，所述垫圈沿平行于所述热平台本体延伸面的方向上开设有若干个第三贯穿孔道，各所述第三贯穿孔道连通所述密封空间与所述气体预热结构。