[发明专利]显影装置及其显影方法

说明书

本发明提供一种显影装置及其显影方法,所述显影装置包括显影单元和清洗单元，所述清洗单元包括清洗液单元和二流体单元，所述清洗液单元包括：壳体、传送平台、喷淋机构以及控制器，所述喷淋机构包括多个喷淋模组，所述控制器分别控制所述多个喷淋模组。相较于现有技术，本发明通过将原喷淋管单一的统一开断模式改造为各喷淋管独立的单独开断模式，保证在局部区域清洗效率不变的同时，降低喷淋机构的总流量，解决了现有技术的清洗单元中，残存少量显影液的清洗液在基板上形成水滴圆斑Mura的技术问题，降低了生产成本，提高了产品良率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显影装置及其显影方法。

背景技术

在平板显示行业中，阵列制程主要包括成膜、黄光与刻蚀，成膜是将金属沉积到玻璃基板上，形成一定厚度的金属膜层；黄光是将掩模版上的图形转印到玻璃基板的金属膜层上，该图形由光阻构成；最后刻蚀制程将该光阻图形未覆盖的部分刻蚀掉，然后通过光阻剥离单元，留下相应的金属图案。

黄光制程包括清洗、去水干燥、涂布、预烘烤、曝光、显影和后烘烤，显影制程包括：显影单元、清洗单元、缓冲单元等单元，其中，清洗单元包括清洗液单元和二流体单元，显影单元分为第一显影段、第二显影段、第三显影段，清洗液单元分为第一清洗液段、第二清洗液段、第三清洗液段。显影单元的作用是进行光刻胶剥离，清洗液单元的作用是除去残留的光刻胶与药液，二流体单元的作用是除去杂质。

在清洗液一段中下喷淋的水会汇聚在显影机上盖板，形成液滴滴落在基板上，由于此时的水中含有少量显影液，会在基板上形成圆形水滴Mura(斑)，对产品造成不良影响。目前的处理办法是降低基板下方的上喷液体流量压力，但是缺点是同时降低了基板下表面的清洗效率，严重时同样会产生基板下表面的赃物Mura，也对产品造成不良影响。

发明内容

本发明提供一种显影装置及其显影方法，能够解决清洗单元中下喷淋的水会汇聚在显影机上盖板，形成液滴滴落在基板上，由于水中残存少量显影液，在基板上形成水滴圆斑Mura的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明提供一种显影装置，包括：显影单元和清洗单元，所述清洗单元包括清洗液单元和二流体单元，所述清洗液单元包括：

壳体，内部具有空间且两侧具有开口；

传送平台，用于传动基板；

喷淋机构，所述喷淋机构包括多个喷淋模组，每个喷淋模组包括喷淋管、设置于喷淋管进水处的气动阀以及设置于所述喷淋管出水处的喷嘴，所述喷嘴设置于所述传送平台的上方或下方；

控制器，分别与所述多个喷淋模组中的气动阀电性连接，以分别控制所述多个喷淋模组中的气动阀的开启或关闭。

在本发明的一些实施例中，所述显影装置还包括至少一个传感器，所述至少一个传感器用于在所述基板与所述喷嘴之间发生相对运动时，确定所述基板的位置。

在本发明的一些实施例中，所述至少一个传感器设置于所述壳体的表面或设置于所述传送平台上。

在本发明的一些实施例中，所述至少一个传感器的数量与所述多个喷淋模组相等，所述至少一个传感器与所述多个喷淋模组一一对应。

在本发明的一些实施例中，所述传送平台所在平面相对水平面倾斜。

在本发明的一些实施例中，所述传送平台所在平面与水平面夹角的范围为5～30°。

在本发明的一些实施例中，所述壳体的上板为三角形。

在本发明的一些实施例中，所述喷嘴喷淋出的液体为去离子水。

在本发明的一些实施例中，所述喷淋机构还包括固定装置，所述固定装置与所述壳体相连接以固定所述喷嘴的高度和喷淋方向。