[发明专利]烫印膜及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种烫印膜的应用方法，用于制作立体光栅，其特征在于，包括如下步骤：

在印刷有经过3D处理图文信息的印张上设置透明层，且所述透明层至少覆盖所述经过3D处理的图文信息；

提供烫印膜，所述烫印膜由依次层叠设置的基材层、离型层及胶粘层组成，其中，所述胶粘层的厚度为0.001mm~0.2mm；所述胶粘层的材质为透明的热塑性树脂，及/或，所述胶粘层的材质选自水性聚氨酯热熔胶、聚氨酯改性树脂热熔胶及ABS树脂热熔胶中的一种；

将所述烫印膜覆盖在所述透明层上，使所述胶粘层的远离所述离型层的一侧面向所述透明层；

从所述基材层的远离所述离型层的一侧进行烫印，使所述胶粘层粘附在所述透明层上；

剥离所述烫印膜的所述基材层；

其中，所述烫印时使用的烫版为立体光栅阴模烫版；所述胶粘层是烫印后形成立体光栅的主体材料。

2.根据权利要求1所述的烫印膜的应用方法，其特征在于，所述基材层选自双向拉伸聚丙烯膜及聚酯膜中的一种。

3.根据权利要求1所述的烫印膜的应用方法，其特征在于，所述基材层的厚度为8μm~20μm。

4.根据权利要求1所述的烫印膜的应用方法，其特征在于，所述离型层的厚度为5nm~20nm。

5.根据权利要求1所述的烫印膜的应用方法，其特征在于，所述烫印膜的制备方法包括如下步骤：

在基材层的一个表面设置离型层；

在所述离型层远离所述基材层的一侧设置胶粘层，其中，所述胶粘层的厚度为0.001mm~0.2mm；所述烫印膜由依次层叠设置的所述基材层、所述离型层及所述胶粘层组成。

6.根据权利要求5所述的烫印膜的应用方法，其特征在于，所述在基材层的一个表面设置离型层的步骤包括：在所述基材层的一个表面涂布离型剂，干燥后，形成所述离型层。

7.根据权利要求6所述的烫印膜的应用方法，其特征在于，所述离型剂选自有机硅树脂、水性石蜡及矿物型蜡中的一种。

8.根据权利要求5所述的烫印膜的应用方法，其特征在于，所述在所述离型层远离所述基材层的一侧设置胶粘层的步骤包括：在所述离型层远离所述基材层的一侧涂布热熔胶，固化后，形成所述胶粘层。