[发明专利]一种用于成像设备的透射体以及相应成像设备在审

专利信息
申请号: 201910552348.4 申请日: 2019-06-25
公开(公告)号: CN110166677A 公开(公告)日: 2019-08-23
发明(设计)人: 张瑞鸿;张松 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;H04N5/217
代理公司: 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 代理人: 李镝的
地址: 223302 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 透射体 成像设备 第一表面 散射结构 第二表面 光滑表面 光透过 入射光 散射 配置 重影 制造
【说明书】:

发明涉及一种用于成像设备的透射体,其中所述透射体被配置为允许光透过所述透射体,其中所述透射体的第一表面为光滑表面,并且所述透射体的背向第一表面的第二表面具有散射结构,其中所述散射结构被配置为对光进行散射。此外,本发明还涉及一种采用该透射体的成像设备以及一种用于制造透射体的方法。通过本发明,可以显著地减小鬼像和重影而不会明显减少入射光强度。

技术领域

本发明总的来说涉及图像传感器领域,具体而言涉及一种用于成像设备的透射体。此外,本发明还涉及一种采用该透射体的成像设备以及一种用于制造透射体的方法。

背景技术

成像设备是一种利用光电转换原理将入射光转换成电信号或图像的设备。图像设备一般包括镜头和图像传感器,其中镜头用于保护图像传感器或者对光进行处理、如聚焦或滤波等,而图像传感器在光路上布置在镜头之后以用于感测被镜头透射的光。在现有成像设备中,当强光入射时,强光在经过表面光滑的镜头之后会在镜头与图像传感器之间被多次反射,从而造成鬼像(ghost image)或重影。

发明内容

从现有技术出发,本发明的任务是提供一种用于成像设备的透射体、一种采用该透射体的成像设备以及一种用于制造透射体的方法,通过透射体、该成像设备和/或该方法,可以显著地减小鬼像和重影而不会明显减少入射光强度。

在本发明的第一方面,该任务通过一种用于成像设备的透射体来解决,其中所述透射体被配置为允许光透过所述透射体,其中所述透射体的第一表面为光滑表面,并且所述透射体的背向第一表面的第二表面具有散射结构,其中所述散射结构被配置为对光进行散射。

在此应当指出,在本发明中,术语“成像设备不仅”涵盖了可生成图像的设备或器件、如摄像头或图像传感器等,而且还涵盖了根据光信号仅生成电信号的感光设备或器件、如光学传感器、光电传感器等。

在本发明的一个优选方案中规定,所述散射结构的横截面为三角形。通过该优选方案,可以较好地保证正向入射的光能够较好地透过并将强光分散,同时较好地分散并衰减被传感器反射到散射结构的光,从而减少或甚至避免光再次被反射至传感器,由此更好地减少鬼影和重影。所述散射结构例如可以为角锥形突起、方锥形突起或圆锥形突起。在本发明的教导下,其它形状的散射结构也是可设想的。

在本发明的一个扩展方案中规定,所述散射结构的材料包括下列各项中的一个或多个:树脂、二氧化硅、玻璃、塑料以及凝胶。在本发明的教导下,也可以设想使用其它透明材料作为散射结构的材料。

在本发明的一个优选方案中规定,所述散射结构的高度为500μm至1000μm,并且其节距为500μm至1500μm。通过该优选方案,可以实现较好的透光和抗反射特性。在此,术语“节距”是指,散射结构的两个相邻子结构(如圆锥、角锥、方锥等)之间的间距。

在本发明的一个扩展方案中规定,所述散射结构通过下列方式中的一种或多种制成:压铸、注塑、干化学刻蚀以及湿化学刻蚀。通过该扩展方案,可以较好地形成散射结构。在本发明的教导下,也可以设想使用其它工艺来形成散射结构、例如一体化成形。

在本发明的第二方面,前述任务通过一种成像设备来解决,该成像设备包括:

透射体,其中所述透射体被配置为允许光透过所述透射体,其中所述透射体的背向图像传感器的第一表面为平坦表面,并且所述透射体的朝向图像传感器的第二表面具有散射结构,其中所述散射结构被配置为散射入射到第二表面的光;以及

图像传感器,其在成像设备的光路上布置在透射体之后,所述图像传感器被配置为感测被透射体透射的光。

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