[发明专利]一种用于成像设备的透射体以及相应成像设备在审

专利信息
申请号: 201910552348.4 申请日: 2019-06-25
公开(公告)号: CN110166677A 公开(公告)日: 2019-08-23
发明(设计)人: 张瑞鸿;张松 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;H04N5/217
代理公司: 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 代理人: 李镝的
地址: 223302 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 透射体 成像设备 第一表面 散射结构 第二表面 光滑表面 光透过 入射光 散射 配置 重影 制造
【权利要求书】:

1.一种用于成像设备的透射体,其中所述透射体被配置为允许光透过所述透射体,其中所述透射体的第一表面为光滑表面,并且所述透射体的背向第一表面的第二表面具有散射结构,其中所述散射结构被配置为对光进行散射。

2.根据权利要求1所述的透射体,其中所述散射结构的横截面为三角形。

3.根据权利要求1所述的透射体,其中所述散射结构的材料包括下列各项中的一个或多个:树脂、二氧化硅、玻璃、塑料以及凝胶。

4.根据权利要求1所述的透射体,其中所述散射结构的高度为500μm至1000μm,并且其节距为500μm至1500μm。

5.根据权利要求1所述的透射体,其中所述散射结构通过下列方式中的一种或多种制成:压铸、注塑、干化学刻蚀以及湿化学刻蚀。

6.一种成像设备,包括:

透射体,其中所述透射体被配置为允许光透过所述透射体,其中所述透射体的背向图像传感器的第一表面为平坦表面,并且所述透射体的朝向图像传感器的第二表面具有散射结构,其中所述散射结构被配置为对光进行散射;以及

图像传感器,其在成像设备的光路上布置在透射体之后,所述图像传感器被配置为感测被透射体透射的光。

7.根据权利要求6所述的成像设备,其中所述散射结构的横截面为三角形。

8.根据权利要求6所述的成像设备,其中所述散射结构的高度为500μm至1000μm,并且其节距为500μm至1500μm。

9.一种用于制造透射体的方法,包括下列步骤:

提供透光片材,其中所述透光片材允许光透过所述片材;以及

对透光片材的第一表面进行平坦化;以及

在透光片材的背向第一表面的第二表面上形成散射结构,其中所述散射结构能够散射光。

10.根据权利要求9所述的方法,其中在透光片材的背向第一表面的第二表面上形成散射结构包括:

通过压铸、注塑、干化学刻蚀或湿化学刻蚀在第二表面上形成散射结构。

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