[发明专利]一种用于成像设备的透射体以及相应成像设备在审
申请号: | 201910552348.4 | 申请日: | 2019-06-25 |
公开(公告)号: | CN110166677A | 公开(公告)日: | 2019-08-23 |
发明(设计)人: | 张瑞鸿;张松 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
主分类号: | H04N5/225 | 分类号: | H04N5/225;H04N5/217 |
代理公司: | 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 | 代理人: | 李镝的 |
地址: | 223302 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透射体 成像设备 第一表面 散射结构 第二表面 光滑表面 光透过 入射光 散射 配置 重影 制造 | ||
1.一种用于成像设备的透射体,其中所述透射体被配置为允许光透过所述透射体,其中所述透射体的第一表面为光滑表面,并且所述透射体的背向第一表面的第二表面具有散射结构,其中所述散射结构被配置为对光进行散射。
2.根据权利要求1所述的透射体,其中所述散射结构的横截面为三角形。
3.根据权利要求1所述的透射体,其中所述散射结构的材料包括下列各项中的一个或多个:树脂、二氧化硅、玻璃、塑料以及凝胶。
4.根据权利要求1所述的透射体,其中所述散射结构的高度为500μm至1000μm,并且其节距为500μm至1500μm。
5.根据权利要求1所述的透射体,其中所述散射结构通过下列方式中的一种或多种制成:压铸、注塑、干化学刻蚀以及湿化学刻蚀。
6.一种成像设备,包括:
透射体,其中所述透射体被配置为允许光透过所述透射体,其中所述透射体的背向图像传感器的第一表面为平坦表面,并且所述透射体的朝向图像传感器的第二表面具有散射结构,其中所述散射结构被配置为对光进行散射;以及
图像传感器,其在成像设备的光路上布置在透射体之后,所述图像传感器被配置为感测被透射体透射的光。
7.根据权利要求6所述的成像设备,其中所述散射结构的横截面为三角形。
8.根据权利要求6所述的成像设备,其中所述散射结构的高度为500μm至1000μm,并且其节距为500μm至1500μm。
9.一种用于制造透射体的方法,包括下列步骤:
提供透光片材,其中所述透光片材允许光透过所述片材;以及
对透光片材的第一表面进行平坦化;以及
在透光片材的背向第一表面的第二表面上形成散射结构,其中所述散射结构能够散射光。
10.根据权利要求9所述的方法,其中在透光片材的背向第一表面的第二表面上形成散射结构包括:
通过压铸、注塑、干化学刻蚀或湿化学刻蚀在第二表面上形成散射结构。
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