[发明专利]一种显示面板及其制备方法

权利要求书

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

干刻蚀步骤，采用四氟化碳与氩气的混合气体对像素定义层进行干刻蚀处理，在所述像素定义层表面形成纳米柱状结构；

其中，所述干刻蚀步骤具体包括如下步骤：

送板步骤，制备有像素定义层的基板送入至一反应器内，其中所述反应器为电容耦合等离子体反应器；

充气步骤，向所述反应器输入四氟化碳与氩气的混合气体，其中所述四氟化碳与所述氩气的流量比为2～3，所述反应器内的气压为30mTorr～200mTorr；

反应步骤，对所述像素定义层进行干刻蚀处理，在所述像素定义层表面形成纳米柱状结构；以及

取板步骤，从所述反应器内取出所述基板。

2.如权利要求1所述的显示面板制备方法，其特征在于，

在所述反应步骤中，干刻蚀处理的时间为60s～120s。

3.如权利要求1所述的显示面板制备方法，其特征在于，

在所述干刻蚀步骤之前，还包括如下步骤：

基板提供步骤，提供一基板；

涂覆步骤，在所述基板上表面涂覆一层光阻溶液，形成光阻层；

干燥步骤，对所述光阻层进行干燥处理；

烘烤步骤，对所述基板进行烘烤处理；

降温步骤，对所述基板进行降温处理；

曝光步骤，采用掩膜板对所述光阻层进行曝光处理；

显影步骤，采用碱性显影液对所述光阻层进行显影处理，形成一像素定义层；

清洗步骤，对所述基板、所述像素定义层进行清洗处理；以及

高温固化步骤，对所述像素定义层进行高温固化处理。

4.如权利要求3所述的显示面板制备方法，其特征在于，

在所述涂覆步骤中，所述光阻溶液为负性光阻溶液；

在所述干燥步骤中，所述光阻层被置于真空干燥腔内；

在所述烘烤步骤中，所述基板被放置于88℃～92℃的热板上，进行加热处理88s～92s；

在所述降温步骤中，所述基板被放置于20℃～25℃的冷板上，进行降温处理58s～62s。

5.如权利要求3所述的显示面板制备方法，其特征在于，

在所述高温固化步骤中，所述像素定义层被置于220℃～240℃的环境下进行高温固化处理58s～62s。