[发明专利]无碱玻璃基板在审
| 申请号： | 201910541488.1 | 申请日： | 2019-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN111718118A | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 广濑元之;榎本高志 | 申请（专利权）人： | AGC株式会社 |
| 主分类号： | C03C3/091 | 分类号： | C03C3/091;C03B5/225 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;张泉陵 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 玻璃 | ||
1.一种无碱玻璃基板，以氧化物基准的质量％表示，所述无碱玻璃基板含有54％～68％的SiO2、10％～25％的Al2O3、0.1％～5.5％的B2O3、8％～26％的MgO+CaO+SrO+BaO，其特征在于，
所述无碱玻璃基板的β-OH为0.15mm-1～0.35mm-1、Cl含量为0.15质量％～0.3质量％，并且
所述无碱玻璃基板的由下述式(1)表示的气泡生长指数I为320以上，
I＝590.5×[β-OH]+874.1×[Cl]-5.7×[B2O3]-33.3 (1)
其中，在式(1)中，[β-OH]表示所述无碱玻璃基板的β-OH(mm-1)、[Cl]表示所述无碱玻璃基板的Cl含量(质量％)、[B2O3]表示所述无碱玻璃基板的B2O3含量(质量％)。
2.如权利要求1所述的无碱玻璃基板，其中，所述无碱玻璃基板的由所述式(1)表示的气泡生长指数I为400以下。
3.如权利要求1或2所述的无碱玻璃基板，其中，所述无碱玻璃基板的应变点为690℃～750℃。
4.如权利要求1或2所述的无碱玻璃基板，其中，以氧化物基准的质量％表示，所述无碱玻璃基板含有0％～12％的MgO、0％～15％的CaO、0％～16％的SrO、0％～15％的BaO。
5.如权利要求1或2所述的无碱玻璃基板，其中，以氧化物基准的质量％表示，所述无碱玻璃基板含有58.5％～67.5％的SiO2、18％～24％的Al2O3、0.1％～1.7％的B2O3、4％～8.5％的MgO、3％～8.5％的CaO、2％～10％的SrO、0％～2.5％的BaO。
6.如权利要求1或2所述的无碱玻璃基板，其中，以氧化物基准的质量％表示，所述无碱玻璃基板含有57％～67.5％的SiO2、17％～25％的Al2O3、1.8％～5.5％的B2O3、2％～8.5％的MgO、1.5％～8％的CaO、0.5％～8.5％的SrO、0％～1％的BaO。
7.如权利要求1或2所述的无碱玻璃基板，其中，所述无碱玻璃基板的杨氏模量为78GPa以上。
8.如权利要求1或2所述的无碱玻璃基板，其中，所述无碱玻璃基板的板厚为0.1mm～0.5mm。
9.如权利要求1或2所述的无碱玻璃基板，其中，所述无碱玻璃基板的基板尺寸为短边2100mm以上、长边2400mm以上。
10.如权利要求1或2所述的无碱玻璃基板，其中，所述无碱玻璃基板的基板尺寸为短边2900mm以上、长边3200mm以上。
11.如权利要求1或2所述的无碱玻璃基板，其中，所述无碱玻璃基板的气泡直径大于100μm的气泡密度为0.06个/kg以下。
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