[发明专利]基片处理装置和基片处理方法

权利要求书

1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：

可动工作台，其具有能够输送用处理液浸湿了的基片的输送机构；和

工作台移动机构，其能够使所述可动工作台至少在上下方向移动。

2.如权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于：

所述可动工作台能够输送被供给了显影液的所述基片。

3.如权利要求2所述的基片处理装置，其特征在于：

所述工作台移动机构能够使所述可动工作台在前后方向移动。

4.如权利要求2所述的基片处理装置，其特征在于：

所述工作台移动机构能够使所述可动工作台在左右方向移动。

5.如权利要求2～4中任一项所述的基片处理装置，其特征在于：

包括清洗处理部，其能够清洗从所述可动工作台送入的所述基片，

所述可动工作台在其被所述工作台移动机构移动到下方的状态下将所述基片送入所述清洗处理部。

6.如权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于，包括：

多个显影工作台，其利用显影液使由所述可动工作台送入的所述基片显影；和

清洗处理部，其设置在所述显影工作台的下方，能够清洗从所述可动工作台送入的所述基片。

7.如权利要求6所述的基片处理装置，其特征在于：

所述显影工作台将所述基片浸渍于所述显影液中来使所述基片显影。

8.如权利要求7所述的基片处理装置，其特征在于，包括：

使所述显影工作台摆动的摆动机构；

显影液回收管线，通过由所述摆动机构摆动所述显影工作台，其回收从所述显影工作台排出的所述显影液；

清洗水供给部，其将清水供给到由所述摆动机构摆动所述显影工作台而排出了所述显影液的状态的所述显影工作台；

回收从所述显影工作台排出的所述清洗水的清洗水回收管线；和

可动式的隔板，其使从所述显影工作台排出的所述显影液或者所述清洗水选择性地流入所述显影液回收管线或者所述清洗水回收管线。

9.如权利要求1～8中任一项所述的基片处理装置，其特征在于：

所述输送机构能够改变所述基片的输送速度。

10.如权利要求1～9中任一项所述的基片处理装置，其特征在于：

所述输送机构利用所述可动工作台使所述基片前进、后退。

11.一种基片处理方法，其特征在于，包括：

在可动工作台内输送基片的步骤，其中所述可动工作台具有能够输送用处理液浸湿了的所述基片的输送装置；和

使所述可动工作台至少在上下方向移动的步骤。