[发明专利]一种光刻设备及其控制方法、装置和存储介质

说明书

本发明实施例公开了一种光刻设备及其控制方法、装置和存储介质，其中光刻设备的控制方法包括：位于曝光区的一运动台在曝光工序中匀速运动时，运动台的匀速速度为第一速度，控制另一运动台在非曝光区运动的速度小于或等于第一预设速度，第一预设速度小于第一速度，使得导轨的振动较小，进而保证在曝光区进行曝光工序的运动台受到的扰动尽可能小，使两个运动台之间的串扰尽可能被消除，保证运动台的曝光精度。

技术领域

本发明实施例涉及光刻技术领域，尤其涉及一种光刻设备及其控制方法、装置和存储介质。

背景技术

随着光刻技术的发展，大世代双运动台的光刻机得到越来越广泛的应用。

大世代的光刻机可用于尺寸较大的基板的曝光，但是基板尺寸较大造成运动台承载基板运动时惯性较大，运动台运动时也会带来光刻机设备的振动，使得两个运动台已发生串扰，影响曝光精度。

发明内容

本发明提供一种光刻设备及其控制方法、装置和存储介质，以实现降低光刻机两个运动台之间的串扰，提高曝光精度。

第一方面，本发明实施例提供了一种光刻设备的控制方法，光刻设备包括两运动台，运动台的工作区包括曝光区和非曝光区；光刻设备的控制方法包括：

位于曝光区的一运动台在曝光工序中匀速运动时，运动台的匀速速度为第一速度，控制另一运动台在非曝光区运动的速度小于或等于第一预设速度，第一预设速度小于第一速度。

其中，第一预设速度等于0。

其中，位于曝光区的一运动台在曝光工序匀速运动，包括：

在曝光工序，控制运动台在同一曝光场内匀速运动；

在曝光工序，还包括：

控制运动台在不同曝光场之间加速或减速运动。

其中，光刻设备的控制方法还包括：

位于曝光区的一运动台在曝光工序中加速或减速运动时，控制另一运动台从非曝光区向曝光区运动以进行物料对准，且另一运动台从非曝光区向曝光区运动的速度大于第一预设速度。

其中，在曝光区进行的工序包括掩模对准工序和曝光工序，在非曝光区进行的工序包括运动台归位工序、交接物料工序、预对准工序、物料对准工序；

光刻设备的控制方法包括：

控制运动台在曝光区进行曝光工序之前，控制运动台运动至曝光区进行掩模对准工序。

其中，控制运动台运动至曝光区进行掩模对准工序包括：

控制一运动台进行掩模对准工序，控制另一运动台依次进行运动台归位工序、交接物料工序和预对准工序。

其中，控制运动台在曝光区进行曝光工序，包括：

控制一运动台进行曝光工序，控制另一运动台进行物料对准工序。

其中，一运动台在曝光区进行曝光工序的时间等于另一运动台在非曝光区进行物料对准工序的时间。

其中，控制一运动台进行曝光工序，控制另一运动台进行物料对准工序，包括：

一运动台的曝光工序和另一运动台的物料对准工序同时完成时，控制完成物料对准工序的运动台处于曝光区和非曝光区的交界处。

其中，在控制运动台运动至曝光区进行掩模对准工序之前，还包括初始化工序，初始化工序包括：

控制物料传输装置对两运动台进行上料；

控制上料预对准装置对两运动台进行预对准；

控制物料对准装置对两运动台进行物料对准；