[发明专利]一种光刻设备及其控制方法、装置和存储介质

权利要求书

1.一种光刻设备的控制方法，其特征在于，所述光刻设备包括两运动台，所述运动台的工作区包括曝光区和非曝光区；所述光刻设备的控制方法包括：

位于所述曝光区的一运动台在曝光工序中匀速运动时，所述运动台的匀速速度为第一速度，控制另一运动台在所述非曝光区运动的速度等于第一预设速度，所述第一预设速度小于所述第一速度；

位于所述曝光区的一运动台在曝光工序中加速或减速运动时，控制另一运动台从所述非曝光区向所述曝光区运动以进行物料对准，且另一运动台从所述非曝光区向所述曝光区运动的速度大于所述第一预设速度；

所述第一预设速度等于0。

2.根据权利要求1所述的光刻设备的控制方法，其特征在于，所述位于所述曝光区的一运动台在曝光工序匀速运动，包括：

在曝光工序，控制所述运动台在同一曝光场内匀速运动；

在曝光工序，还包括：

控制所述运动台在不同曝光场之间加速或减速运动。

3.根据权利要求1所述的光刻设备的控制方法，其特征在于，在所述曝光区进行的工序包括掩模对准工序和曝光工序，在所述非曝光区进行的工序包括运动台归位工序、交接物料工序、预对准工序、物料对准工序；

所述光刻设备的控制方法包括：

控制所述运动台在所述曝光区进行曝光工序之前，控制所述运动台运动至所述曝光区进行所述掩模对准工序。

4.根据权利要求3所述的光刻设备的控制方法，其特征在于，所述控制所述运动台运动至所述曝光区进行所述掩模对准工序包括：

控制一所述运动台进行掩模对准工序，控制另一所述运动台依次进行运动台归位工序、交接物料工序和预对准工序。

5.根据权利要求3所述的光刻设备的控制方法，其特征在于，控制所述运动台在所述曝光区进行曝光工序，包括：

控制一所述运动台进行曝光工序，控制另一所述运动台进行物料对准工序。

6.根据权利要求5所述的光刻设备的控制方法，其特征在于，一所述运动台在所述曝光区进行曝光工序的时间等于另一运动台在所述非曝光区进行物料对准工序的时间。

7.根据权利要求6所述的光刻设备的控制方法，其特征在于，所述控制一所述运动台进行曝光工序，控制另一所述运动台进行物料对准工序，包括：

一运动台的所述曝光工序和另一运动台的所述物料对准工序同时完成时，控制完成所述物料对准工序的所述运动台处于所述曝光区和所述非曝光区的交界处。

8.根据权利要求3所述的光刻设备的控制方法，其特征在于，在所述控制所述运动台运动至所述曝光区进行所述掩模对准工序之前，还包括初始化工序，所述初始化工序包括：

控制物料传输装置对两所述运动台进行上料；

控制上料预对准装置对两所述运动台进行预对准；

控制物料对准装置对两所述运动台进行物料对准；

控制两所述运动台之中的任一运动台运动至所述曝光区。

9.一种光刻设备的控制装置，其特征在于，所述光刻设备包括两运动台，所述运动台的工作区包括曝光区和非曝光区；所述光刻设备的控制装置包括：

控制模块，所述控制模块用于位于所述曝光区的一运动台在曝光工序中匀速运动时，所述运动台的匀速速度为第一速度，控制另一运动台在所述非曝光区运动的速度等于第一预设速度，所述第一预设速度小于所述第一速度；

位于所述曝光区的一运动台在曝光工序中加速或减速运动时，控制另一运动台从所述非曝光区向所述曝光区运动以进行物料对准，且另一运动台从所述非曝光区向所述曝光区运动的速度大于所述第一预设速度；所述第一预设速度等于0。

10.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，该程序被处理器执行时实现如权利要求1-8任一所述的光刻设备的控制方法。

11.一种光刻设备，其特征在于，包括权利要求9所述的光刻设备的控制装置，还包括两运动台，所述运动台的工作区包括曝光区和非曝光区。