[发明专利]一种通体砖坯的制备方法及使用其方法制备的抛光砖有效
申请号: | 201910522076.3 | 申请日: | 2019-06-17 |
公开(公告)号: | CN110202680B | 公开(公告)日: | 2021-04-13 |
发明(设计)人: | 曾权;管霞菲;谢穗;曾立华;周燕 | 申请(专利权)人: | 佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;清远纳福娜陶瓷有限公司;佛山市东鹏陶瓷发展有限公司 |
主分类号: | B28B13/02 | 分类号: | B28B13/02;B28B3/00;E04F13/14;E04F15/08 |
代理公司: | 佛山市禾才知识产权代理有限公司 44379 | 代理人: | 单蕴倩 |
地址: | 528031 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 通体 砖坯 制备 方法 使用 抛光 | ||
本发明公开了一种通体砖坯的制备方法及使用其方法制备的抛光砖,其制备方法包括以下步骤:A、准备坯体粉料;B、下料控制装置根据设定程序独立控制多个下料孔的开度,并通过下料滚筒或下料皮带带动步骤A中的坯体粉料下料,使坯体粉料有初速度地从不同的下料孔下料,并在副皮带上形成区域面积可控、线条粗细可控的纹理料层;C、将步骤B中的纹理料层转移到主皮带上,形成砖坯层;D、将步骤C中的砖坯层转移到压坯装置内,压制形成砖坯。可根据设计图案实现不同纹理的布料,满足多样的生产要求,同时保证粉料顺利下料,避免压制成型的通体砖坯表面的纹理图案失真程度大、图案不完整,以及通体砖坯的纹理料层之间透底、透灰现象的出现。
技术领域
本发明涉及建筑陶瓷技术领域,尤其涉及一种通体砖坯的制备方法及使用其方法制备的抛光砖。
背景技术
随着人们审美水平的提高,对陶瓷砖装饰效果的要求也不断提高,陶瓷砖的砖面装饰图案越丰富,越有竞争力,越能够有市场上占据一定地位。目前陶瓷砖的砖面装饰图案的生产手段上,生产具有随机纹理的陶瓷砖坯通常采取网版布料、格栅布料、雕花滚筒、雕花皮带等布料方式,使布料完毕的陶瓷砖砖坯形成一定的纹理。
在现有的布料方式中,无论是网版、格栅、雕花滚筒还是雕花皮带,通过其中之一所施布的陶瓷砖坯都只具备一种花纹或图案,一旦粉料被施布,其纹理区域的大小不可改变,其纹理内部线条的粗细不可控制,所布料出来的通体砖坯的厚度也不能随意更改。而当需要施布其他花纹或图案的陶瓷砖坯,则需要更换具有其他花纹或图案样式的网版、格栅、雕花滚筒或雕花皮带,换产麻烦,大大降低了陶瓷砖坯的换产速度,同时增加生产成本。且当陶瓷砖纹理的区域大小、线条粗细,陶瓷砖坯的厚度需要按照要求改变时,无论是改造周期还是调试成本都是一种生产损耗,降低产品的开发效率的同时,拖慢生产进度。
目前,市面上出现了像素布料的布料方式来生产具有随机纹理的陶瓷砖坯,像素布料具体指的是,通过在下料装置上设置多个下料管,每个下料管有对应的下料孔,并通过不同的下料孔控制装置控制每个下料孔的出料,由此,在布料过程中能够根据需求施布不同的花纹或图案。一般情况下,该布料方式通常利用下料装置内的粉料自重下料,下料速度慢;若下料装置内需要施布的粉料是流动性较差或水份含量较大的粉料,例如微粉或者亚微粉,则粉料容易在下料孔处堵塞,粉料不能正常下料或下料量不足,最终导致压制成型的通体砖坯表面的纹理图案失真程度大,图案不完整,而且容易出现通体砖坯的纹理料层之间透底、透灰的现象。
发明内容
本发明的目的在于提出一种通体砖坯的制备方法,可根据设计图案实现不同纹理的布料,满足多样的生产要求,同时保证粉料顺利下料,避免压制成型的通体砖坯表面的纹理图案失真程度大、图案不完整,以及通体砖坯的纹理料层之间透底、透灰现象的出现,以克服现有技术中的不足之处。
本发明的另一个目的在于提出一种使用通体砖坯的制备方法制备获得的抛光砖,其纹理变化快速,可控性高,纹理层之间纹理能完全对应,精细程度高,无透底透灰现象。
为达此目的,本发明采用以下技术方案:
一种通体砖坯的制备方法,包括以下步骤:
A、准备坯体粉料;
B、下料控制装置根据设定程序独立控制多个下料孔的开度,并通过下料滚筒或下料皮带带动步骤A中的坯体粉料下料,使坯体粉料有初速度地从不同的下料孔下料,并在副皮带上形成区域面积可控、线条粗细可控的纹理料层;
C、将步骤B中的纹理料层转移到主皮带上,形成砖坯层;
D、将步骤C中的砖坯层转移到压坯装置内,压制形成砖坯。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;清远纳福娜陶瓷有限公司;佛山市东鹏陶瓷发展有限公司,未经佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;清远纳福娜陶瓷有限公司;佛山市东鹏陶瓷发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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