[发明专利]一种基于平面样品转截面样品的特定微小区域标定方法

说明书

本发明的一种基于平面样品转截面样品的特定微小区域标定方法，包括步骤：将平面样品放入透射电子显微镜中观察，并记录平面样品上的特定微小区域的位置信息；根据记录的位置信息对对平面样品进行金属线性沉积，于平面样品上形成线性路径；将带有线性路径的平面样品放入透射电子显微镜中，观察线性路径是否落入特定微小区域内：若是，则以该线性路径作为将平面样品转截面样品时的执行位置；若不是，则再次对所述平面样品进行所述金属线性沉积，直至有所述线性路径落入所述特定微小区域内为止。本发明弥补了扫描式电子显微镜分辨率不高的缺点，可以对特定微小区域进行精准的定位，避免了误认盲切，能够得到符合要求的截面样品。

技术领域

本发明涉及制作透射电子显微镜样品的技术领域，尤其涉及一种基于平面样品转截面样品的特定微小区域标定方法。

背景技术

对于透射电子显微镜样品，通常是采用双束聚焦离子束的扫描式电子显微镜进行制作，制成的样品一般分为两种，一种是平面样品(如图1)，另一种则是截面样品(如图2)。其中，平面样品包含的面积通常较大，在透射电子显微镜中观察时，容易看到许多特定微小区域(如异常点)，如若对这些特定微小区域进行进一步观察和分析的话，就需要将该平面样品转成截面样品，即对平面样品上对应于特定微小区域的位置进行切割，进而制成截面样品。

但由于扫描式电子显微镜的分辨率较低，在透射电子显微镜内所观察到的特定微小区域于扫描式电子显微镜内无法精准的定位，对于平面样品进行再次加工转成截面样品时，无法明确的看到要执行的正确位置，只能根据大概位置进行模糊定位，很容易造成误认盲切，严重影响到后续的观察和分析。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种基于平面样品转截面样品的特定微小区域标定方法，可在扫描式电子显微镜分辨率较低的情况下，也能对平面样品上特定微小区域进行准确定位，制作符合要求的截面样品。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：一种基于平面样品转截面样品的特定微小区域标定方法，包括步骤：

将平面样品放入透射电子显微镜中观察，并记录所述平面样品上的特定微小区域的位置信息；

将所述平面样品放入双束聚焦离子束的扫描式电子显微镜中，根据记录的所述位置信息对所述平面样品进行金属线性沉积，于所述平面样品上形成线性路径；

将带有所述线性路径的所述平面样品放入所述透射电子显微镜中，观察所述线性路径是否落入所述特定微小区域内：

若是，则将落入所述特定微小区域的所述线性路径作为将所述平面样品转截面样品时的执行位置；

若不是，则再次对所述平面样品进行所述金属线性沉积，直至有所述线性路径落入所述特定微小区域内为止。

本发明的方法能够对平面样品上的特定微小区域进行准确标记，弥补了扫描式电子显微镜分辨率不高的缺点，避免了误认盲切，能够得到符合要求的截面样品，便于对特定微小区域进行进一步的观察和分析。

本发明基于平面样品转截面样品的特定微小区域标定方法的进一步改进在于：在记录所述特定微小区域的位置信息时，一并记录尺寸信息，并且在进行所述金属线性沉积时，于所述平面样品上形成两条以上间隔排列的所述线性路径，同时控制相邻所述线性路径之间的距离不大于所述特定微小区域的尺寸。

通过上述方法，进行一次金属线性沉积形成若干条线性路径，增加了至少有一条线性路径可以实际地落入特定微小区域内的概率，缩短了操作时间。

本发明基于平面样品转截面样品的特定微小区域标定方法的进一步改进在于：当所述平面样品上包括至少两个所述特定微小区域时，所述尺寸信息为面积最小的所述特定微小区域的尺寸信息，在进行所述金属线性沉积时，于所述平面样品的整个平面上形成一定数量的所述线性路径，同时控制相邻所述线性路径之间的距离不大于面积最小的所述特定微小区域的尺寸。