[发明专利]一种基于平面样品转截面样品的特定微小区域标定方法

权利要求书

1.一种基于平面样品转截面样品的特定微小区域标定方法，其特征在于，包括步骤：

将平面样品放入透射电子显微镜中观察，并记录所述平面样品上的特定微小区域的位置信息；

将所述平面样品放入双束聚焦离子束的扫描式电子显微镜中，根据记录的所述位置信息对所述平面样品进行金属线性沉积，于所述平面样品上形成线性路径；

将带有所述线性路径的所述平面样品放入所述透射电子显微镜中，观察所述线性路径是否落入所述特定微小区域内：

若是，则将落入所述特定微小区域的所述线性路径作为将所述平面样品转截面样品时的执行位置；

若不是，则再次对所述平面样品进行所述金属线性沉积，直至有所述线性路径落入所述特定微小区域内为止。

2.如权利要求1所述的基于平面样品转截面样品的特定微小区域标定方法，其特征在于，在记录所述特定微小区域的位置信息时，一并记录尺寸信息，并且在进行所述金属线性沉积时，于所述平面样品上形成两条以上间隔排列的所述线性路径，同时控制相邻所述线性路径之间的距离不大于所述特定微小区域的尺寸。

3.如权利要求2所述的基于平面样品转截面样品的特定微小区域标定方法，其特征在于，当所述平面样品上包括至少两个所述特定微小区域时，所述尺寸信息为面积最小的所述特定微小区域的尺寸信息，在进行所述金属线性沉积时，于所述平面样品的整个平面上形成一定数量的所述线性路径，同时控制相邻所述线性路径之间的距离不大于面积最小的所述特定微小区域的尺寸。

4.如权利要求1～3任一项所述的基于平面样品转截面样品的特定微小区域标定方法，其特征在于，还包括步骤：在确定所述执行位置后制作截面样品，在进行所述截面样品的制作时，于所述执行位置处沿平行于所述线性路径的方向对所述平面样品进行切割，以得到所述截面样品。

5.如权利要求1～3任一项所述的基于平面样品转截面样品的特定微小区域标定方法，其特征在于，所述线性路径的数量范围为2～100条。

6.如权利要求2或3所述的基于平面样品转截面样品的特定微小区域标定方法，其特征在于，当有若干条所述线性路径落入所述特定微小区域内时，记录相对距离最远的两条线性路径的位置，然后于所述两条线性路径之间的任意位置作为所述执行位置。