[发明专利]检查装置有效
申请号: | 201910503406.4 | 申请日: | 2019-06-11 |
公开(公告)号: | CN110609439B | 公开(公告)日: | 2023-01-17 |
发明(设计)人: | 堀田浩司 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G01N21/95 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 汪飞亚;习冬梅 |
地址: | 日本国大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 检查 装置 | ||
检查装置20包括至少具有接收自多个像素(周期性检查对象物)PX有周期地并列地设置的主液晶面板(检查对象基板)10M的光的光接收元件25、以及用以在光接收元件25使光成像的成像部件26,并摄影与像素PX有关的图像的照相机(摄影部)21;经由将通过照相机21摄影的图像与参照图像进行比较,判定像素PX的好坏的判定部31;经由使光接收元件25与成像部件26相对位移,或者使主液晶面板10M与照相机21相对位移,将照相机21的光学分辨率的数值调整成像素PX的周期的整数分之一的分辨率调整部32。
技术领域
本发明涉及一种检查装置。
背景技术
以往,已知作为用以检查晶圆上的图案等的检查装置的例子在下述的专利文献1记载。此检查装置在将图案的设计数据与已取得的图像图案进行比较并检查在该被测量试样形成的图案的缺陷的方法与装置中,该被测量试样是所谓的光掩模,该图案的设计数据在使用制作光掩模时制作的设计图案,在通过与该取得图像进行比较而实行检查的过程,设计数据在通过实际地在晶圆上形成图案时使用的步进机而形成光掩模的图像(之后,称作晶圆图像),以适当的方法变换,并同时将实际地被测量到的取得图像以适当的变换方法变换成晶圆图像,通过将其两者进行比较而检测缺陷。
现有技术文献
专利文件
专利文献1:日本公开专利公报“特开第2006-250845号公报”
发明内容
本发明所要解决的技术问题
根据上述的专利文献1记载的检查装置,通过从检查装置得到的图像制作晶圆上的图案,能够仅抽出在实际的晶圆上成为问题的缺陷并进行检查。然而,与用以取得图像图案的摄影部有关的分辨率(optical resolution)与检查对象即图案的周期产生干扰,则生成称作莫尔纹的干涉条纹,有起因于此而产生缺陷的错误检测之虞。
本发明是基于如上所述的事情而完成,目的在于抑制缺陷的错误检测的生成。
解决问题的手段
(1)本发明的一实施方式是,一种检查装置包括至少具有接收自多个周期性检查对象物有周期地并列地设置的检查对象基板的光的光接收元件、用以在所述光接收元件使所述光成像的成像部件,并摄影与所述周期性检查对象物有关的图像的摄影部;经由将通过所述摄影部摄影的所述图像与参照图像进行比较;判定所述周期性检查对象物的好坏的判定部;经由使所述光接收元件与所述成像部件相对位移,或者使所述检查对象基板与所述摄影部相对位移,将所述摄影部的分辨率的数值调整至所述周期性检查对象物的周期的整数分之一的分辨率调整部。
这样的话,经由将自多个周期性检查对象物有周期地并列地设置的检查对象基板的光通过成像部件在光接收元件成像,而由光接收元件接收光。由此,摄影部能够摄影与周期性检查对象物有关的图像。判定部经由将通过摄影部摄影的图像与参照图像进行比较,判定周期性检查对象物的好坏。另外,参照图像可以是通过摄影部摄影成为比较对象的周期性检查对象物而得到的,也可以是基于周期性检查对象物的设计数据等预先设定的。在此,由于周期性检查对象物在检查对象基板中多个以周期性地并列地配置,当周期性检查对象物的周期与摄影部的分辨率产生干扰,则生成称作莫尔纹的干涉条纹,从而有产生缺陷的错误检测的疑虑。这点,由于分辨率调整部经由使光接收元件与成像部件相对位移,或者使检查对象基板与摄影部相对位移,能够将摄影部的分辨率的数值调整成周期性检查对象物的周期的整数分之一,能够让周期性检查对象物的周期与摄影部的分解难以产生干扰。由此,抑制起因于莫尔纹的缺陷的错误检测的生成。
(2)又,本发明的实施方式是除了上述(1)的构成之外,所述成像部件由多个透镜构成;所述分辨率调整部相对于所述光接收元件使所述多个透镜相对位移的检查装置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普株式会社,未经夏普株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910503406.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:制造半导体器件的方法
- 下一篇:一种3D盖板黄光生产工艺
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备