[发明专利]自适应周期波形控制器

说明书

本发明涉及自适应周期波形控制器。重复设定点生成器模块根据在连续时间间隔期间重复的预定模式而选择性地改变输出参数的设定点。闭环模块在时间间隔中的第一时间间隔期间，基于(i)所述时间间隔中的第一时间间隔期间设定点在N个时刻处的N个值与(ii)时间间隔中的第一时间间隔期间输出参数在N个时刻处的N个测量值之间的N个差而分别生成N个闭环值。调节模块在时间间隔中的第一时间间隔期间，基于(i)时间间隔中的第二时间间隔期间设定点在N个时刻处的N个值与(ii)时间间隔中的第二时间间隔期间输出参数在N个时刻处的N个测量值之间的N个差而分别生成N个调节值。

本申请是于2015年12月2日提交的申请号为201580062727.5(国际申请号为PCT/US2015/063421)、名称为“自适应周期波形控制器”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本公开涉及等离子体腔室以及射频(RF)生成系统和方法，并且更具体地涉及RF生成器。

背景技术

在此所提供的背景描述通常是为了呈现本公开上下文的目的。就在此背景部分中所述的程度而言，当前所指定的发明人的工作、以及可以另外在递交时刻不具有作为现有技术的资格的描述的方面并未明确地或隐含地承认作为对抗本公开的现有技术。

射频(RF)生成器接收交流(AC)输入功率并且生成RF输出。RF输出可以例如施加至等离子体腔室的等离子体电极。等离子体腔室可以用于薄膜制造系统以及其他类型的系统中。

在一些情况下，等离子体腔室可以包括多个等离子体电极。仅作为示例，可以实现多于一个等离子体电极，其中被处理的表面区域大于单个等离子体电极可以能够服务的区域。

因此，在一些情况下，可以采用多个RF生成器。RF生成器中的每一个生成RF输出并且将RF输出施加至等离子体电极中的每一个。可以致力于电连接RF生成器以生成相同的RF输出。

发明内容

在特征中，公开了一种功率输出生成系统。重复设定点生成器模块根据在连续时间间隔期间重复的预定模式而选择性地改变输出参数的设定点。闭环模块在所述时间间隔中的第一时间间隔期间，基于(i)所述时间间隔中的第一时间间隔期间所述设定点在N个时刻处的N个值与(ii)所述时间间隔中的第一时间间隔期间所述输出参数在所述N个时刻处的N个测量值之间的N个差而分别生成N个闭环值。调节模块在所述时间间隔中的第一时间间隔期间，基于(i)所述时间间隔中的第二时间间隔期间所述设定点在所述N个时刻处的N个值与(ii)所述时间间隔中的第二时间间隔期间所述输出参数在所述N个时刻处的N个测量值之间的N个差而分别生成N个调节值。时间间隔中的第二时间间隔是紧接在时间间隔中的第一时间间隔之前的时间间隔。功率放大器将输出功率施加至负载。混合器模块基于N个闭环值和N个调节值而分别生成N个输出值，并且基于N个输出值而控制输入至功率放大器的功率。

在进一步特征中，N个时刻是相等地间隔开的。

在进一步特征中，N个时刻不相等地间隔开的。

在进一步特征中，闭环模块使用比例积分(PI)控制而生成N个闭环值。

在进一步特征中，调节模块使用比例积分(PI)控制而生成N个调节值。

在进一步特征中，混合器模块进一步基于混合比率而生成N个输出值，并且混合器模块选择性地改变混合比率。

在进一步特征中，频率控制模块选择性地调节功率放大器的基础频率。

在进一步特征中，频率控制模块基于反射功率而选择性地调节功率放大器的基础频率。

在进一步特征中，频率控制模块基于反射系数而选择性地调节功率放大器的基础频率。

在进一步特征中，功率放大器将输出施加至等离子体电极。