[发明专利]一种通过翻转式靶门隔离靶体的镀膜机在审
申请号: | 201910449108.1 | 申请日: | 2019-05-27 |
公开(公告)号: | CN110295351A | 公开(公告)日: | 2019-10-01 |
发明(设计)人: | 李志荣;李志方;潘锐华;陈思 | 申请(专利权)人: | 东莞市汇成真空科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/35 |
代理公司: | 广州知友专利商标代理有限公司 44104 | 代理人: | 赖智威;周克佑 |
地址: | 523820 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 靶体 翻转 靶腔 伸缩机构 腔口 真空镀膜室 启闭机构 镀膜机 翻转式 隔离 壁板 方向移动 水汽接触 门密封 腔口处 靶材 对靶 盖合 连通 收缩 保证 | ||
本发明公开了一种通过翻转式靶门隔离靶体的镀膜机,包括真空镀膜室、靶体、靶腔、伸缩机构、靶门及翻转启闭机构,通过循环流经靶体的液体实现对靶体的降温,靶腔设置在真空镀膜室的底部或顶部或侧部,通过腔口直接与真空镀膜室连通;伸缩机构安装在靶腔的壁板上;靶体安装在伸缩机构上,并位于靶腔内;由伸缩机构带动靶体向腔口方向移动,或收缩回靶腔内;靶门通过翻转启闭机构安装在腔口处,通过翻转启闭机构带动靶门翻转,通过翻转的靶门密封盖合腔口或打开腔口。本发明能保证使用过程中靶材始终不会与水汽接触。
技术领域
本发明涉及一种镀膜机,特别是涉及一种通过翻转式靶门隔离靶体的镀膜机。
背景技术
现有广泛用于生产的磁控溅射镀膜机中所用的溅射靶体或整体装于炉内、或整体装于炉壁上(下壁、侧壁或上壁),靶体上的靶材表面都朝向炉内被镀工件,镀膜前炉腔抽真空并启动加热,下一步充入氩气,在工件与炉壁(接地)施加较高电压,使炉内氩气辉光放电产生氩等离子体,对工件表面进行氩离子轰击清洗,然后进入镀膜作业:启动阴极磁控溅射靶电源,产生靶材溅射,溅出靶材物料,在工件上施加负偏压,把溅射出的靶材粒子吸拉到工件表面沉积成膜层。由于在镀膜作业中,靶材会发热,在靶材背面必须有水冷装置带走热量。
一般的靶材都能耐受一定温度和湿度,在镀膜作业完毕后,等待炉内冷却到100度左右,破真空,打开炉门取工件。在打开炉门后,虽然靶材曝露在大气中,但一般不会产生不允许的不良影响和后果。有的镀膜机炉内还备有多种靶材的阴极溅射靶,在镀膜时,为了避免不同靶材的靶体之间相互污染,会在靶材前方加置活动遮挡板,它起到遮挡屏蔽作用,但不起真空密封作用。
随着科学技术不断发展,出现了许多新材料靶材。新近有要求镀锂膜层,需要使用金属锂作为靶材,而金属锂的特性是不能接触水、稍高温下不能接触水汽,否则会引起爆炸。现有的磁控溅射镀膜机的溅射靶结构都不能满足隔离大气(空气含水汽)要求,必须重新设计全新的溅射靶结构和镀膜机。使用锂材料靶材的镀膜机结构必须满足:1、不能用水作为介质进行冷却,以保证锂材料不会与水接触;2、有单独真空气密功能,能与大气隔离,隔离水汽。为此,我们针对上述技术特点,发明了具有上述功能的专用镀膜机。
发明内容
本发明所要解决的技术问题,就是提供一种通过翻转式靶门隔离靶体的镀膜机,其能保证使用过程中靶材始终不会与水汽接触。
解决上述技术问题,本发明采用的技术方案如下:
一种通过翻转式靶门隔离靶体的镀膜机,包括真空镀膜室和靶体,通过循环流经靶体的液体实现对靶体的降温,其特征在于:还包括:
靶腔,设置在真空镀膜室的底部或顶部或侧部,通过腔口直接与真空镀膜室连通;
伸缩机构,安装在靶腔的壁板上;靶体安装在伸缩机构上,并位于靶腔内;由伸缩机构带动靶体向腔口方向移动,或收缩回靶腔内;
靶门及翻转启闭机构,靶门通过翻转启闭机构安装在腔口处,通过翻转启闭机构带动靶门翻转,通过翻转的靶门密封盖合腔口或打开腔口。
循环流经所述靶体用于降温的液体为硅油。
在所述靶腔的壁板上设有用于对靶腔进行抽真空的抽气口。
所述翻转启闭机构包括旋转机构、第一动密封组件和旋转轴,旋转轴可转动支承在腔口的侧旁,靶门的与旋转轴对应的侧边与旋转轴固定连接,旋转机构安装在真空镀膜室外部,旋转机构的输出轴通过第一动密封组件与旋转轴连接,通过第一动密封组件实现密封。
在所述靶门上对应腔口的沿边设有靶门密封圈,在腔口的周边设有一圈围边;当靶门密封盖在腔口处时,靶门密封圈压在靶门与腔口的沿边之间,围边围绕在靶门的外围。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞市汇成真空科技有限公司,未经东莞市汇成真空科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910449108.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:真空处理装置
- 下一篇:电-磁场协同增强高功率脉冲磁控溅射沉积装置及方法
- 同类专利
- 专利分类