[发明专利]一种低温脱除分子筛膜中模板剂的方法

权利要求书

1.一种低温脱除分子筛膜中模板剂的方法，其特征在于，该方法将含有机模板剂的分子筛膜置于含有水蒸汽的臭氧气氛下，控制温度不高于300℃进行焙烧，去除分子筛膜中的有机模板剂。

2.根据权利要求1所述的一种低温脱除分子筛膜中模板剂的方法，其特征在于，上述气氛中臭氧的浓度为1～200mg/L。

3.根据权利要求2所述的一种低温脱除分子筛膜中模板剂的方法，其特征在于，所述臭氧由臭氧发生器以氧气或空气为原料气产生。

4.根据权利要求3所述的一种低温脱除分子筛膜中模板剂的方法，其特征在于，以空气为原料气，产生的臭氧气氛中臭氧浓度为15～30mg/L，以氧气为原料气，产生的臭氧气氛中臭氧浓度为80～100mg/L，通过加入稀释气体能够将臭氧气氛中臭氧浓度控制为1mg/L。

5.根据权利要求3或4所述的一种低温脱除分子筛膜中模板剂的方法，其特征在于，所述原料气的流速为20～600ml/min。

6.根据权利要求1所述的一种低温脱除分子筛膜中模板剂的方法，其特征在于，所述水蒸汽在臭氧发生器前或臭氧发生器后引入，引入方式是将原料气鼓泡通过液态水。

7.根据权利要求6所述的一种低温脱除分子筛膜中模板剂的方法，其特征在于，所述原料气中的水蒸汽分压通过鼓泡器中水的温度来控制，其上限是操作条件下水的饱和蒸气压，下限为100ppm。

8.根据权利要求7所述的一种低温脱除分子筛膜中模板剂的方法，其特征在于，原料气通过多个串联的鼓泡器使其中的水蒸汽达到饱和。

9.根据权利要求1所述的一种低温脱除分子筛膜中模板剂的方法，其特征在于，焙烧温度控制在50～300℃，优选100～200℃，更优选100～150℃，焙烧时间控制在1～60h，焙烧时升温和降温速率不超过2℃/min。

10.根据权利要求1所述的一种低温脱除分子筛膜中模板剂的方法，其特征在于，所述分子筛膜包括但不限于SAPO-34分子筛膜、MFI分子筛膜、全硅-CHA分子筛膜、SSZ-13分子筛膜或DDR分子筛膜。