[发明专利]一种提高原子团对抛精度的方法有效

专利信息
申请号: 201910422528.0 申请日: 2019-05-21
公开(公告)号: CN110108302B 公开(公告)日: 2023-01-17
发明(设计)人: 郭强;姚辉彬;毛海岑 申请(专利权)人: 华中光电技术研究所(中国船舶重工集团有限公司第七一七研究所)
主分类号: G01C25/00 分类号: G01C25/00
代理公司: 北京律谱知识产权代理有限公司 11457 代理人: 黄云铎
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 提高 原子团 精度 方法
【说明书】:

本申请公开了一种提高原子团对抛精度的方法,适用于冷原子干涉仪,冷原子干涉仪中包括磁光阱和感光相机,包括:步骤1,在磁光阱的冷却光打开且梯度磁场关闭时,利用感光相机获取磁光阱的背景图像;步骤2,利用感光相机,逐次在冷却光和梯度磁场打开、并陷俘冷原子团后,获取磁光阱的多张目标图像;步骤3,根据背景图像和多张目标图像,采用差分算法,计算对于每张目标图像的、冷原子团的囚禁位置;步骤4,计算多张目标图像中囚禁位置的坐标抖动误差,并根据坐标抖动误差,计算磁光阱的第一调整系数。通过本申请中的技术方案,有利于提高确定冷原子团囚禁位置的准确性,优化冷原子干涉仪的干涉效果和参数调整的准确性。

技术领域

本申请涉及冷原子干涉陀螺仪的技术领域,具体而言,涉及一种提高原子团对抛精度的方法。

背景技术

利用原子的波动性来形成干涉,并进一步构成包围一定面积的干涉环路,利用萨格奈克效应来测量转动速度和加速度的原子陀螺仪,其分辨率和测量精度比光学陀螺仪可以大大提高。目前,此类原子陀螺仪主要有两种:热原子束陀螺仪和冷原子陀螺仪。冷原子陀螺仪需要降低原子团冷却温度,以提高冷原子团囚禁位置的稳定性,并调整冷原子团对抛指向精度、原子团对抛速度,进而提高冷原子陀螺仪的检测性能。

在实际工作过程中,冷原子团每次抛射前所处的初始位置会因为囚禁原子的数目、囚禁光偏振、囚禁光频率、囚禁光强度、囚禁磁场强度等因素的细微变化而有所不同,且冷原子团每次抛射的方向也会受到上述因素的影响。初始位置和抛射方向的偏差会导致原子干涉效应的重复性变差,导致陀螺仪的检测误差增大。

而现有技术中,为了监视冷原子团的初始位置,可以使用高分辨率相机对处于囚禁状态的冷原子团进行拍照,然后依据图像处理的相关算法,分析冷原子团位置的变化。在这一过程中,一方面,在确定冷原子团质心时,仅将冷原子团当成普通的点源光斑对待,没有考虑冷原子团亮度的衰减,导致其质心定位存在偏差。另一方面,在判断冷原子团飞行偏差时,通常是根据干涉条纹和干涉后探测阶段的荧光信号变化信息,间接地反推冷原子团的抛射偏差,这种偏差判断方法,缺少对冷原子团中间飞行过程的监测,难以准地判断出飞行过程的偏差以及造成该偏差的原因,不利于偏差的减小。

发明内容

本申请的目的在于:提高确定冷原子团囚禁位置的准确性,优化冷原子干涉仪的干涉效果和参数调整的准确性。

本申请的技术方案是:提供了一种提高原子团对抛精度的方法,适用于冷原子干涉仪,冷原子干涉仪中包括磁光阱和感光相机,感光相机的摄像区域正对于磁光阱,该方法包括:步骤1,在磁光阱的冷却光打开且梯度磁场关闭时,利用感光相机获取磁光阱的背景图像;步骤2,利用感光相机,逐次在冷却光和梯度磁场打开、并陷俘冷原子团后,获取磁光阱的多张目标图像;步骤3,根据背景图像和多张目标图像,采用差分算法,计算对于每张目标图像的、冷原子团的囚禁位置,其中,囚禁位置为磁光阱囚禁冷原子团的位置;步骤4,计算多张目标图像中囚禁位置的坐标抖动误差,并根据坐标抖动误差,计算磁光阱的第一调整系数,第一调整系数包括第一光路系数和第一磁场系数,其中,第一调整系数f(·)的计算公式为:

σpos(u)=f(P(u),A(u),F(u),C(u),G(u)),u=1,2,3…U

式中,σpos(u)为第u张目标图像对应的坐标抖动误差,P(u)为第u张目标图像对应的冷却光的光强,A(u)为相应的冷原子团的抛射角度,F(u)为相应的冷却光频率,C(u)为相应的磁场电流强度,G(u)为相应的磁场梯度。

上述任一项技术方案中,进一步地,步骤3中具体包括:步骤31,根据背景图像,按照目标图像的顺序,依次选取一张目标图像,采用差分算法,计算目标图像中像素点的像素修订值,生成修订图像,其中,像素修订值的计算公式为:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中光电技术研究所(中国船舶重工集团有限公司第七一七研究所),未经华中光电技术研究所(中国船舶重工集团有限公司第七一七研究所)许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910422528.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top