[发明专利]一种红外窄带滤光片制造方法有效
| 申请号： | 201910414368.5 | 申请日： | 2019-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN110133783B | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 赵刚科;尹智辉 | 申请（专利权）人： | 东莞市微科光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;C23C14/34;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 张春水;唐京桥 |
| 地址： | 523000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 红外 窄带 滤光 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种红外窄带滤光片制造方法，其特征在于，包括：
通过中频溅射的方式镀膜，在靶材溅射过程中向靶材直接冲氢气反应得到带铝的高折射率SIH材料层，其中，所述靶材为硅铝靶。
2.根据权利要求1所述的一种红外窄带滤光片制造方法，其特征在于，所述中频溅射的方式包括：
采用从上往下溅射镀膜，其中，溅射源在上，基材在下。
3.根据权利要求1所述的一种红外窄带滤光片制造方法，其特征在于，所述中频溅射为采用频率为40kHz的溅射源溅射。
4.根据权利要求2所述的一种红外窄带滤光片制造方法，其特征在于，还包括：
基材以预设的速度旋转，靶材溅射方向垂直于该旋转平面。
5.根据权利要求1所述的一种红外窄带滤光片制造方法，其特征在于，所述硅铝靶中铝硅含量比例为1：40。
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