[发明专利]实验室风险目标质量控制图绘制方法

说明书

本发明涉及实验室风险目标质量控制技术，其公开了一种实验室风险目标质量控制图绘制方法，解决现有技术中的质控方案存在的需要繁琐的规则、无法直观评估质控中的风险，而部分研究提出的风险评估方案复杂不利于推广使用的问题。该方法包括：计算体现实验室长期稳定程度的长期标准差值，计算实验室自身的误差分布参数，在每次实施质控时测定质控品，得到质控结果，根据贝叶斯定理计算检测系统的误差分布参数，计算不同误差存在的可能性，计算不同误差存在时超出允许总误差的概率，计算本次质控的总风险，将质控次数或天数作为横坐标，将质控总风险大小和质控结果作为纵坐标,绘制质控图，并在质控图中设置风险控制线。

技术领域

本发明涉及实验室风险目标质量控制技术，具体涉及一种实验室风险目标质量控制图绘制方法。

背景技术

目前使用较为普遍的质控(质量控制)方案为Westgard提出的多规则方案，该质控方案需要多个规则联合使用，使用过程复杂，且无法明确指出质控中的风险。而国际上EP23文件提出质控方案需要从风险角度出发，应将质控的重点转移到风险上。

Pavin等人提出了一套风险质量控制的方案，但该方案算法复杂，风险展示不够明确，同时，风险的定义涉及许多不确定因素，现阶段很难在实际工作中应用与推广。

因此，对于现有技术中的质控方案至少存在以下问题：需要繁琐的规则、无法直观评估质控中的风险、部分研究提出的风险评估方案复杂不利于推广使用。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：提出一种实验室风险目标质量控制图绘制方法，解决现有技术中的质控方案存在的需要繁琐的规则、无法直观评估质控中的风险，而部分研究提出的风险评估方案复杂不利于推广使用的问题。

本发明解决上述技术问题所采用的技术方案是：

实验室风险目标质量控制图绘制方法，包括以下步骤：

s1.计算体现实验室长期稳定程度的长期标准差值：其中，TEa为检测项目的允许总误差，bias为通过室间质评获得的实验室的偏移；sigma_l为实验室长期sigma值；

s2.计算实验室自身的误差分布参数：其中，u₀表示实验室误差分布的均数，sd₀表示误差分布标准差，mean、sd分别为通过一段时间的质控数据求得的质控的均值和质控标准差；

s3.在每次实施质控时测定质控品，得到质控结果x，重复测定质控品的次数记作n_r，计算质控结果均数：

s4.根据贝叶斯定理计算检测系统的误差分布参数：

其中u_t表示检测系统误差分布的均数的概率密度函数的均数，sd_t表示其标准差；

s5.计算不同误差存在的可能性：其中se表示系统误差的大小；

s6.计算不同误差存在时超出允许总误差的概率，即此时出现不可靠样本的风险值：

s7.计算本次质控的总风险：

s8.将质控次数或天数作为横坐标，将质控总风险大小RM和质控结果x作为纵坐标，绘制质控图，并在质控图中设置风险控制线。

作为进一步优化，步骤s1中，所述sigma_l的计算方法为：

sigma_l＝sigma_s-1.65；

其中，sigma_s为实验室短期sigma值，该方案中，通过实验室短期sigma值来估算实验室长期sigma值，方便快捷。