[发明专利]掩膜板、蒸镀装置、蒸镀方法以及掩膜板中蒸镀开口的设计方法

权利要求书

1.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板设置有多个蒸镀开口、以及至少一个第一检测用开口；所述第一检测用开口的尺寸小于所述蒸镀开口的尺寸；

所述第一检测用开口靠近至少一个所述蒸镀开口设置；

所述蒸镀开口在所述掩膜板中的位置采用如下方法得到：

以第一掩膜板为依据，得到所述掩膜板；其中，所述第一掩膜板包括多行多列的第一蒸镀开口，所述掩膜板的多个蒸镀开口与所述第一掩膜板的多个第一蒸镀开口一一对应；

获取第一掩膜板放置在蒸镀装置中时，第一掩膜板与蒸镀源之间的距离H₁，第一掩膜板与待蒸镀基板之间的距离H₂；其中，第一蒸镀开口包括相互平行且沿第一方向延伸的第一边，以及相互平行且沿第二方向延伸的第二边，第一方向和第二方向交叉；针对任一个所述第一蒸镀开口，设每条第一边与所述蒸镀源沿垂直第一方向的距离为S，计算与每条第一边一一对应的补偿值，该补偿值＝H₂×S/H₁；设每条第二边与所述蒸镀源沿垂直第二方向的距离为L，计算与每条第二边一一对应的补偿值，该补偿值＝H₂×L/H₁；

将所述第一蒸镀开口的每条第一边依次分别沿垂直第一方向，向靠近蒸镀源的一侧平移，平移的距离为与每条第一边一一对应的补偿值；第一蒸镀开口的第一边平移后的位置为所述蒸镀开口的第一边的位置；

将所述第一蒸镀开口的每条第二边依次分别沿垂直第二方向，向靠近蒸镀源的一侧平移，平移的距离为与每条第二边一一对应的补偿值；所述第一蒸镀开口的第二边平移后的位置为蒸镀开口的第二边的位置。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，在所述掩膜板长度方向的两侧边缘还至少设置有两个第二检测用开口。

3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一检测用开口为多个；

每个所述蒸镀开口至少对应一个所述第一检测用开口。

4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，每个所述蒸镀开口对应两个所述第一检测用开口，且该两个第一检测用开口分别设置在所述蒸镀开口的对角位置处；或者，该两个第一检测用开口分别设置在蒸镀开口的相对两边侧。

5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，多个所述蒸镀开口分为多个蒸镀开口组，每个蒸镀开口组中包括2×2个所述蒸镀开口；

在每个所述蒸镀开口组中任意相邻的两个所述蒸镀开口之间均设置有一个所述第一检测用开口。

6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，位于不同所述蒸镀开口组且任意相邻的两个所述蒸镀开口之间，还设置有一个所述第一检测用开口。

7.根据权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述第一检测用开口的形状为矩形。

8.根据权利要求7所述的掩膜板，其特征在于，位于上下相邻的两行蒸镀开口之间的第一检测用开口，沿行方向，其长度与所述蒸镀开口的长度相等；

位于左右相邻的两列蒸镀开口之间的第一检测用开口，沿列方向，其宽度与所述蒸镀开口的宽度相等。

9.一种蒸镀装置，其特征在于，包括蒸镀腔室、蒸镀源、待蒸镀基板承载板、以及权利要求1-8任一项所述的掩膜板；

所述掩膜板设置于所述蒸镀源的上方，所述待蒸镀基板承载板设置于所述掩膜板的上方。

10.一种蒸镀方法，其特征在于，包括：

利用如权利要求9所述的蒸镀装置，在待蒸镀基板上与所述蒸镀装置中掩膜板的蒸镀开口对应的蒸镀区蒸镀形成膜层，同时，在待蒸镀基板上与所述掩膜板的第一检测用开口对应的检测区蒸镀形成检测图案；所述检测图案包括位于所述检测图案中间的膜厚保证区以及位于所述膜厚保证区边缘的阴影区，所述膜厚保证区的膜层厚度大于阴影区的膜层厚度；

判断所述检测图案中膜厚保证区的中心与所述检测区的中心的距离是否在预设范围内；

若否，根据所述检测图案中膜厚保证区的中心与所述检测区的中心的相对位置，平移所述掩膜板，以减小所述检测图案中膜厚保证区的中心与所述检测区的中心的距离。