[发明专利]OPC修正方法及OPC修正系统

权利要求书

1.一种OPC修正方法，其特征在于，包括：

提供一集成电路版图，所述版图包括多个待修正的版图图形，待添加的亚分辨率辅助图形与所述待修正的版图图形之间具有一最小间距；

选择所述多个待修正的版图图形中的若干个作为目标图形，所述目标图形之间具有冲突区，在所述冲突区形成的所述目标图形的亚分辨率辅助图形之间具有交集；

将所述目标图形的边界以所述最小间距往外放大，形成膨胀层，所述冲突区透过所述膨胀层形成暴露区域；以及

在所述暴露区域添加亚分辨率辅助图形；

其中，所述集成电路版图为进行过基于规则的光学修正后得到的版图，此处“基于规则的光学修正”指的是根据版图图形的宽度和间距约束预先计算出一个查找表，根据这个查找表来决定怎样移动图形的边缘，以使设计的图形得到完整的呈现；所述待修正的版图图形为待添加亚分辨率辅助图形的版图图形，也即一些孤立或稀疏分布的图形。

2.如权利要求1所述的OPC修正方法，其特征在于，在所述待修正的版图图形中选择若干目标图形的步骤包括：

根据设定的亚分辨率辅助图形的添加规则对所述多个待修正的版图图形两两进行冲突检测，当按照所述添加规则在第一待修正的版图图形和第二待修正的版图图形之间的区域分别形成第一亚分辨率辅助图形和第二亚分辨率辅助图形时，若所述第一亚分辨率辅助图形与所述第二亚分辨率辅助图形之间产生交集，选定所述第一待修正的版图图形和第二待修正的版图图形为目标图形，否则不属于目标图形。

3.如权利要求1所述的OPC修正方法，其特征在于，所述冲突区透过所述膨胀层形成所述暴露区域的步骤包括：

将所述目标图形之间所有的所述冲突区求并集，形成冲突层；以及

计算所述膨胀层对于所述冲突层的差集，作为所述暴露区域。

4.如权利要求3所述的OPC修正方法，其特征在于，得到所述暴露区域后，删除所述膨胀层和冲突层。

5.如权利要求1所述的OPC修正方法，其特征在于，将在所述暴露区域添加的所有亚分辨率辅助图形形成新层。

6.一种OPC修正系统，其特征在于，包括：

存储模块，用于存储包括多个待修正的版图图形的集成电路版图，以及待添加的亚分辨率辅助图形与所述待修正的版图图形之间的最小间距；

选择模块，用于选择所述多个待修正的版图图形中的若干个作为目标图形，所述目标图形之间具有冲突区，在所述冲突区形成的所述目标图形的亚分辨率辅助图形之间具有交集；

图形变换模块，用于将所述若干目标图形的边界以所述最小间距往外放大，形成膨胀层，并将所述冲突区透过所述膨胀层形成暴露区域；以及

修正模块，用于在所述暴露区域添加亚分辨率辅助图形；

其中，所述集成电路版图为进行过基于规则的光学修正后得到的版图，此处“基于规则的光学修正”指的是根据版图图形的宽度和间距约束预先计算出一个查找表，根据这个查找表来决定怎样移动图形的边缘，以使设计的图形得到完整的呈现；所述待修正的版图图形为待添加亚分辨率辅助图形的版图图形，也即一些孤立或稀疏分布的图形。

7.如权利要求6所述的OPC修正系统，其特征在于，所述集成电路版图为进行过基于规则的光学修正后得到的版图，所述待修正的版图图形为待添加亚分辨率辅助图形的版图图形。

8.如权利要求6所述的OPC修正系统，其特征在于，所述集成电路版图为孔层版图。

9.如权利要求6所述的OPC修正系统，其特征在于，在所述暴露区域添加的亚分辨率辅助图形的数量大于或等于1个。

10.如权利要求9所述的OPC修正系统，其特征在于，部分所述亚分辨率辅助图形的至少一边与所述暴露区域的边缘重合。