[发明专利]多色膜的制备方法及显示面板在审
| 申请号: | 201910378686.0 | 申请日: | 2019-05-08 |
| 公开(公告)号: | CN110128029A | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
| 发明(设计)人: | 张迅;易伟华;郑芳平;徐彬彬;洪华俊 | 申请(专利权)人: | 江西沃格光电股份有限公司 |
| 主分类号: | C03C17/42 | 分类号: | C03C17/42;C03C17/38;C08J7/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/35;G09F9/00 |
| 代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 刘玉花;景怀宇 |
| 地址: | 338004 江西省新余*** | 国省代码: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 多色 制备 薄膜层 基板 固定设置 显示面板 渐变 靶材 磁控溅射系统 真空磁控溅射 磁场影响 厚度均匀 反射率 渐变色 折射率 靶台 色散 沉积 调试 单调 申请 | ||
本申请提供一种多色膜的制备方法及显示面板。所述多色膜的制备方法包括将至少一块所述磁体固定设置于所述基板的一面。所述固定设置有至少一块所述磁体的基板的一面背向所述磁控溅射系统中的靶台。在真空磁控溅射过程中,所述靶材以分子或原子的形态分布。所述靶材在所述基板上沉积为薄膜层的过程中,受到所述磁体的磁场影响,会形成厚度均匀递变的薄膜层。由于所述薄膜层的厚度是无台阶渐变的,光在通过所述薄膜层时,光的反射率、折射率、色散等参数连续渐变,使得通过所述多色膜的制备方法制备的所述多色膜可以形成各种各样的渐变色膜。所述多色膜的制备方法有效避免了调试方式单一,多色膜的色彩单调的问题。
技术领域
本申请涉及显示技术领域,特别是涉及一种多色膜的制备方法及显示面板。
背景技术
目前,电子产品的外观设计成为了一款产品能否取得成功的重要因素,这其中也包括了产品的外观颜色设计。3D颜色玻璃渐变效果是通过溅射成膜时改变玻璃基片上中下区域的成膜厚度(形成递增或递减的变化),从而形成特定的彩虹色光带。
极光色工艺即是采用某种特定的遮板,将一部分离子云遮住,只让另一部分的离子云附着在玻璃表面,形成一层极薄的纳米镀层。通过控制镀层的厚度,形成纳米级的厚度差别,再喷上底色,就实现了充满神秘感的极光色。渐变色玻璃在镀膜过程中,经常通过增加遮板或调整镀膜角度来实现渐变色的调试,这种渐变色的调试方法只能够调试上中下区域渐变效果,或者左中右渐变效果,调试方式单一,多色膜的色彩单调。
发明内容
基于此,有必要针对现有渐变色的调试方法调试方式单一,多色膜的色彩单调的问题,提供一种多色膜的制备方法及显示面板。
一种多色膜的制备方法,采用磁控溅射系统实现所述制备方法,包括:
S10,提供至少一块磁体和一块基板,将至少一块所述磁体固定设置于所述基板的一面;
S20,将固定设置有至少一块所述磁体的基板固定于所述磁控溅射系统中的样品台上,所述固定设置有至少一块所述磁体的基板的一面背向所述磁控溅射系统中的靶台;
S30,提供至少一种靶材,将所述靶材固定设置于所述靶台,利用磁控溅射法在所述基板上形成至少一层薄膜层,所述薄膜层的厚度无台阶渐变。
在其中一个实施例中,所述S30,提供至少一种靶材,将所述靶材固定设置于所述靶台,利用磁控溅射法在所述基板上形成至少一层薄膜层的步骤包括:
提供第一靶材,将所述第一靶材固定设置于所述靶台;
开启所述磁控溅射系统的中频电源,充入第一预设含量的氧气后,在第一预设溅射功率和第一预设溅射速度下,得到第一氧化薄膜层。
在其中一个实施例中,所述S30,提供至少一种靶材,将所述靶材固定设置于所述靶台,利用磁控溅射法在所述基板上形成至少一层薄膜层的步骤还包括:
在所述第一氧化薄膜层的基础上,提供第二靶材,将所述第二靶材固定设置于所述靶台;
开启所述磁控溅射系统10的中频电源,充入第二预设含量的氧气后,在第二预设溅射功率和第二预设溅射速度下,得到第二氧化薄膜层。
在其中一个实施例中,当所述第一靶材与所述第二靶材均为顺磁性材料或均为逆磁性材料时,所述第二氧化薄膜层的厚度渐变规律与所述第一氧化薄膜层的厚度渐变规律相同;
当所述第一靶材和所述第二靶材中的一个靶材为顺磁性材料,另一个靶材为逆磁性靶材时,所述第二氧化薄膜层的厚度渐变规律与所述第一氧化薄膜层的厚度渐变规律相反。
在其中一个实施例中,当所述磁体为球磁体或点磁体,所述靶材为顺磁性材料时,所述薄膜层的厚度渐变规律为由所述磁场的中心向四周无台阶变薄;
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