[发明专利]一种透明OLED显示器制作方法及显示器

说明书

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种透明OLED显示器制作方法及显示器,其中所述方法包括如下步骤：在有源层上形成蚀刻阻挡层，并在蚀刻阻挡层上蚀刻出连接源极/漏级电路的ES过孔；在蚀刻阻挡层上刻画源极/漏级电路；在源极/漏级电路上形成钝化层，并蚀刻出显露漏级电路表面的IP过孔；在钝化层上形成有机平坦层，并在IP过孔处曝光显影出显露漏级电路表面的OP过孔；在有机平坦层上形成ITO透明电极并图案化，且ITO透明电极依次经过IP过孔、OP过孔连接漏级电路；通过黄光制程透过半色掩膜板对有机平坦层曝光显影，同时形成透射窗口通孔、画素开口和隔垫层。本方案中能够减少光罩布设，优化显示器制程工艺的同时降低生产成本，进而提高产品的竞争力。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种透明OLED显示器制作方法及显示器。

背景技术

随着显示技术的日益发展，各种新型技术不断涌现，透明显示技术因其透明的显示面板这一特性及其独特的应用，越来越受到人们的关注。透明显示技术的核心是透明显示面板，透明显示板是一种能够显示图像的透明面板，在关闭时，面板就仿佛一块透明玻璃；当工作时，观看者不仅能够观看到在面板上显示的内容，同时还能透过面板观看到面板后的物体。

近年来，研究人员对透明显示技术做了大量研究，尝试了各种不同的显示技术，如液晶显示技术、有机发光二极管显示技术、等离子体显示技术等。总体来说，透明显示技术可以根据显示器的不同分为两种。对于液晶显示器这种非自发光的显示器件，透明显示技术主要是利用外界光或者进行背光源的重排来达到透明显示；而对于OLED、PDP这种自发光显示器件，透明显示技术主要指通过技术改进采用透明度高的材料替代或者去除原来器件中不透明的部分，不断提高器件的整体透明度以实现透明显示。

薄透明化是未来显示器重要发展的趋势，而随着透明显示器需求的增长，如何简化显示面板的制造工艺、降低生产成本，是提高产品的竞争力的有利手段。但是目前主流透明OLED器件需要光罩制程较多，工艺较为复杂，生产成本居高不下。

发明内容

为此，需要提供一种透明OLED显示器制作方法及显示器，来解决OLED显示器生产工艺复杂，制作成本高的问题。

为实现上述目的，发明人提供了一种透明OLED显示器制作方法，包括如下步骤：

在基板上形成栅极并制作栅极驱动电路；

在栅极上形成栅极绝缘层；

在栅极绝缘层上形成有源层；

在有源层上形成蚀刻阻挡层，并在蚀刻阻挡层上蚀刻出连接源极/漏级电路的ES过孔；

在蚀刻阻挡层上刻画源极/漏级电路；

在源极/漏级电路上形成钝化层，并蚀刻出显露漏级电路表面的IP过孔；

在钝化层上形成有机平坦层，并在IP过孔处曝光显影出显露漏级电路表面的OP过孔；

在有机平坦层上形成ITO透明电极并图案化，且ITO透明电极依次经过IP过孔、OP过孔连接漏级电路；

通过黄光制程透过半色掩膜板对有机平坦层曝光显影，同时形成透射窗口通孔、画素开口和隔垫层，其中所述半色掩膜板具有三种不同光线透过率。

进一步的，所述半色掩膜板遮挡在隔垫层上的区域光线透光率为0％，遮挡在画素开口和透射窗口上的区域透光率为100％。

进一步的，所述半色掩膜板遮挡在其他区域的区域光线透光率为50％。

进一步的，所述“在有源层上形成蚀刻阻挡层，并在蚀刻阻挡层上蚀刻出连接源极/漏级电路的ES过孔；”步骤中还包括：

在蚀刻阻挡层和栅极绝缘层上蚀刻出双层过孔作为透射窗口，以显露出基板。