[发明专利]一种透明OLED显示器制作方法及显示器

权利要求书

1.一种透明OLED显示器制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

在基板上形成栅极并制作栅极驱动电路；

在栅极上形成栅极绝缘层；

在栅极绝缘层上形成有源层；

在有源层上形成蚀刻阻挡层，并在蚀刻阻挡层上蚀刻出连接源极/漏级电路的ES过孔；

在蚀刻阻挡层上刻画源极/漏级电路；

在源极/漏级电路上形成钝化层，并蚀刻出显露漏级电路表面的IP过孔；

在钝化层上形成有机平坦层，并在IP过孔处曝光显影出显露漏级电路表面的OP过孔；

在有机平坦层上形成ITO透明电极并图案化，且ITO透明电极依次经过IP过孔、OP过孔连接漏级电路；

通过黄光制程透过半色掩膜板对有机平坦层曝光显影，同时形成透射窗口通孔、画素开口和隔垫层，其中所述半色掩膜板具有三种不同光线透过率；

所述“在有源层上形成蚀刻阻挡层，并在蚀刻阻挡层上蚀刻出连接源极/漏级电路的ES过孔；”步骤中还包括：

在蚀刻阻挡层和栅极绝缘层上蚀刻出双层过孔作为透射窗口，以显露出基板；

所述“在源极/漏级电路上形成钝化层，并蚀刻出显露漏级电路表面的IP过孔”步骤中还包括：

在透射窗口处的钝化层上蚀刻出与双层过孔连通的通孔，以显露出基板。

2.根据权利要求1所述的透明OLED显示器制作方法，其特征在于，所述半色掩膜板遮挡在隔垫层上的区域光线透光率为0%，遮挡在画素开口和透射窗口上的区域透光率为100%。

3.根据权利要求2所述的透明OLED显示器制作方法，其特征在于，所述半色掩膜板遮挡在其他区域的区域光线透光率为50%。

4.根据权利要求1所述的透明OLED显示器制作方法，其特征在于，所述“在源极/漏级电路上形成钝化层，并蚀刻出显露漏级电路表面的IP过孔”步骤中还包括：

在蚀刻阻挡层、栅极绝缘层以及钝化层上蚀刻出三层过孔作为透射窗口，以显露出基板。

5.根据权利要求1所述的透明OLED显示器制作方法，其特征在于，所述“在钝化层上形成有机平坦层，并在IP过孔处曝光显影出显露漏级电路表面的OP过孔”步骤中还包括:

在透射窗口处的有机平坦层上蚀刻出与双层过孔连通的通孔，以显露出基板。

6.根据权利要求4所述的透明OLED显示器制作方法，其特征在于，通过黄光制程透过半色掩膜板对钝化层进行曝光显影，以同时形成IP过孔和透射窗口，其中所述半色掩膜板具有三种不同光线透过率，半色掩膜板遮挡在透射窗口上的区域透光率为100%，遮挡在的IP过孔区域光线透光率为50%，遮挡在其他区域的区域光线透光率为0%。

7.根据权利要求4所述的透明OLED显示器制作方法，其特征在于，所述有源层为IGZO有源层。

8.一种显示器，其特征在于，所述显示器根据权利要求1到7任意一项所述的方法制作而成。