[发明专利]ESD防护薄膜晶体管及ESD防护结构有效
申请号: | 201910357615.2 | 申请日: | 2019-04-29 |
公开(公告)号: | CN110085584B | 公开(公告)日: | 2023-05-30 |
发明(设计)人: | 肖翔;韩佰祥 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L29/417;H01L29/786 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂;王中华 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | esd 防护 薄膜晶体管 结构 | ||
本发明提供一种ESD防护薄膜晶体管及ESD防护结构。所述ESD防护薄膜晶体管包括:基板、设于所述基板上的有源层、设于所述有源层及基板上的栅极绝缘层、设于所述栅极绝缘层上并与所述有源层相对的栅极、设于所述栅极及栅极绝缘层上的层间绝缘层以及设于所述层间绝缘层上的间隔分布的源极及漏极;所述源极具有数个第一静电释放尖端,所述漏极具有分别正对所述数个第一静电释放尖端的数个第二静电释放尖端,通过在源极和漏极上设置正对的静电释放尖端,使得ESD防护薄膜晶体管同时具有薄膜晶体管释放和尖端释放两种静电释放路径,能够提升静电释放效率,防止线路炸伤,保证产品良率。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种ESD防护薄膜晶体管及ESD防护结构。
背景技术
随着显示技术的发展,平板显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点,而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品,成为显示装置中的主流。现有的平板显示装置主要包括液晶显示装置(Liquid Crystal Display,LCD)及有机发光二极管显示装置(Organic Light EmittingDisplay,OLED)。
现有平板显示装置为了达到防静电的目的,一般在基板上设有静电放电(Electro-Static Discharge,ESD)防护结构。现有的ESD防护结构采用具有浮栅结构(GateFloating)的ESD防护薄膜晶体管(Thin Film Transistor)释放多余电荷,现有的ESD防护结构如图1及图2所示,在信号线10和公共电压线20(Common)之间连接有ESD防护薄膜晶体管30,ESD防护薄膜晶体管30包括栅极301、源极302、漏极303及有源层304,所述栅极301及源极302部分重叠形成第一耦合电容C10和栅极301和漏极303部分重叠形成第二耦合电容C20,源极302电性连接信号线10,漏极303电性连接公共电压线20,当信号线10或公共电压线20上累积的静电过高时会对第一耦合电容C10或第二耦合电容C20充电,使得ESD防护薄膜晶体管30的栅极301电压上升,进而导通ESD防护薄膜晶体管30,完成静电释放。
为了保证静电释放效果,需要尽可能的减少ESD防护薄膜晶体管30的漏电流,所述ESD防护薄膜晶体管30的漏电流与其沟道宽度W及沟道长度L有关,沟道宽度W越小,漏电越小,沟道长度L越大,漏电流越小,为了减小漏电流,现有技术中,通常会将ESD防护薄膜晶体管30的沟道宽长比(W/L)设计的很小(如6:200),当线路中产生静电并通过ESD防护薄膜晶体管30的释放时,过低的宽长比又会导致释放不够迅速,而炸伤线路,降低产品良率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种ESD防护薄膜晶体管,能够提升静电释放效率,防止线路炸伤,保证产品良率。
本发明的目的还在于提供一种ESD防护结构,能够提升静电释放效率,防止线路炸伤,保证产品良率。
为实现上述目的,本发明提供了一种ESD防护薄膜晶体管,包括:基板、设于所述基板上的有源层、设于所述有源层及基板上的栅极绝缘层、设于所述栅极绝缘层上并与所述有源层相对的栅极、设于所述栅极及栅极绝缘层上的层间绝缘层以及设于所述层间绝缘层上的间隔分布的源极及漏极;
所述源极具有数个第一静电释放尖端,所述漏极具有分别正对所述数个第一静电释放尖端的数个第二静电释放尖端。
所述源极和漏极均为U形;
所述源极具有2个分别位于所述源极的两端部的第一静电释放尖端,所述漏极具有2个分别位于所述漏极的两端部的第二静电释放尖端。
所述有源层的材料为非晶硅、多晶硅或氧化物半导体。
贯穿所述述层间绝缘层及栅极绝缘层设有第一过孔及第二过孔,所述源极及漏极分别通过所述第一过孔及第二过孔与有源层的两端接触。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的