[发明专利]一种显示面板及其制作方法、和显示装置在审
| 申请号： | 201910355339.6 | 申请日： | 2019-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN110112308A | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | 汪博 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/52 | 分类号： | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透明导电层 显示面板 阳极 氮氧化物 显示装置 反射层 基板 发光效率 透明导电 氧化铟锡 减小 制作 替代 申请 | ||
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
基板；
位于所述基板上的第一透明导电层，所述第一透明导电层的材质为氮氧化物；
位于所述第一透明导电层上的第一反射层；
位于所述第一反射层上的第二透明导电层，所述第二透明导电层的材质为氮氧化物。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一透明导电层和所述第二透明导电层的材质均为氮氧化铟钛。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一透明导电层是通过在所述基板上溅射氧化铟靶材和氮化钛靶材而形成的。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一透明导电层的厚度小于所述第一反射层的厚度，所述第二透明导电层的厚度小于所述第一透明导电层的厚度。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第一透明导电层的厚度范围为30～100nm，所述第一反射层的厚度范围为40～200nm，所述第二透明导电层的厚度范围为5～20nm。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：
位于所述第二透明导电层上的第二反射层；
位于所述第二反射层上的第三透明导电层。
7.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供基板；
在所述基板上形成第一透明导电层，所述第一透明导电层的材质为氮氧化物；
在所述第一透明导电层上形成第一反射层；
在所述第一反射层上形成第二透明导电层，所述第二透明导电层的材质为氮氧化物。
8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，在所述基板上形成第一透明导电层的步骤，具体包括：
通过在所述基板上溅射氧化铟靶材和氮化钛靶材，以形成第一透明导电层。
9.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，在所述第一反射层上形成第二透明导电层的步骤之后，还包括：
在所述第二透明导电层上，形成第二反射层；
在所述第二反射层上，形成第三透明导电层。
10.一种显示装置，其特征在于，包括驱动电路和如权利要求1-6任一项所述的显示面板，其中，所述驱动电路用于向所述显示面板提供驱动电压。
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