[发明专利]一种SiO2有效

专利信息
申请号: 201910351985.5 申请日: 2019-04-20
公开(公告)号: CN110182814B 公开(公告)日: 2021-09-17
发明(设计)人: 田辉明;田正芳;黄林勇;杨水彬;陈中文;雷绍民 申请(专利权)人: 黄冈师范学院;田辉明
主分类号: C01B33/037 分类号: C01B33/037
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 吴楚
地址: 438300 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 sio base sub
【说明书】:

发明涉及一种SiO2纯度大于5N的高纯石英砂的生产方法,包括浮选除杂、除气液包裹体、超声波酸洗除杂、高压除晶格杂质、高温氧化除杂、高温真空脱羟基、高温氯化除杂步骤,同时解决了去除石英砂粉中杂质、包裹体及羟基的三大难题,可得到纯度大于99.999%高纯石英砂产品。

技术领域

本发明涉及一种SiO2纯度>5N的高纯石英砂的生产方法,属于非金属矿深加工技术领域。

背景技术

我国有着非常丰富的高品位的脉石英矿产资源,主要分布在江苏东海县;大别山地区的蕲春、麻城、大悟、红安、新县、太湖、宿松;山西五台山;内蒙赤峰;新疆尾亚口;陕西的汉中、宝鸡;甘肃天水;黑龙江通河等地;众所周知:石英矿石大都是与长石、伊利石、叶腊石、高岭石、云母等含铝硅酸盐矿物伴生且矿石中或多或少地还含有电气石、刚玉、钛铁矿、硫铁矿、磁铁矿、褐铁矿等矿物杂质;除前面几种杂质外,石英矿石在地质形成过程中还含有气体和液体包裹体及固体包裹体等杂质;把石英矿石进行切片抛光处理后,用显微镜观看其有一定的透明度,但内部或多或少的存在气体、液体包裹体而影响了其透明性,在显微镜中还可以看到石英颗粒内部存在很小的固体包裹体矿物杂质。这些包裹体杂质在石英矿石深加工的提纯过程中,大家都千方百计地设法想把它从矿物中去除干净,以制备出高纯度的石英砂粉来提高其产品的附加值以达到提高企业的整体效益的目的。然而,到目前为止,我国提纯高纯石英砂的工艺技术、装置设备和提纯后的高纯石英砂粉的质量与美国的尤尼明公司相比,存在明显的不足;我们分析其主要原因是:1石英砂粉的提纯除杂质工艺技术及设备;2除气、液、固包裹体技术及工艺;3除羟基工艺方法及设备等存在三大技术难题没有得到完全彻底的解决;正是由于这三大技术难题多年未解,才使我国的高纯石英砂粉质量一直达不到美国尤尼明公司产品的技术指标要求。为此,我们经过多年的研究,终于研发出一种新的提纯技术工艺,它成功的解决了同时去除石英砂粉中杂质、包裹体及羟基三大难题,从而将使我国的高纯石英砂提纯工艺技术迈入世界先进行列。查阅相关的文献资料,没有发现关于同时除去石英粉中的杂质、包裹体及羟基的相关文献资料及学术报道。

发明内容

本发明的目的在于提供一种新的提纯技术工艺,可同时去除石英砂粉中杂质、包裹体及羟基。

本发明解决上述技术问题所采用的方案是:

一种SiO2纯度>5N的高纯石英砂的生产方法,包括如下步骤:

S1,浮选除杂:将石英砂粉物料进行多次浮选除杂,每次浮选前将物料用超声波处理调浆,处理后的石英颗粒物料表面清洁度增加,有利于浮选效率的提高。

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