[发明专利]工艺数据监控方法及工艺数据监控系统

权利要求书

1.一种工艺数据监控方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1、获取生产设备用于分别对应生产多个显示面板的多个工艺数据，将多个工艺数据划分为满足正态分布的多个第一工艺数据以及不满足正态分布的多个第二工艺数据；

步骤S2、获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子；

步骤S3、将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合，得到拟合曲线；

步骤S4、获取所有工艺数据与拟合曲线的残差，通过每一工艺数据对应的残差判断每一工艺数据为正常工艺数据或异常工艺数据，从而判断与每一工艺数据对应的显示面板为正常显示面板或异常显示面板。

2.如权利要求1所述的工艺数据监控方法，其特征在于，所述步骤S1中，所述多个第一工艺数据满足3sigma规则的正态分布。

3.如权利要求1所述的工艺数据监控方法，其特征在于，所述步骤S2中，通过主成分分析法获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子。

4.如权利要求1所述的工艺数据监控方法，其特征在于，所述步骤S3中，通过线性回归方程将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合。

5.如权利要求1所述的工艺数据监控方法，其特征在于，所述步骤S4中，当残差大于一预设的阈值时，判断工艺数据为异常工艺数据；当残差小于或等于一预设的阈值时，判断工艺数据为正常工艺数据。

6.一种工艺数据监控系统，其特征在于，包括：生产设备(10)以及与所述生产设备(10)连接的监控模块(20)；

所述监控模块(20)用于获取生产设备(10)用于分别对应生产多个显示面板的多个工艺数据，将多个工艺数据划分为满足正态分布的多个第一工艺数据以及不满足正态分布的多个第二工艺数据；

所述监控模块(20)用于获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子；

所述监控模块(20)用于将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合，得到拟合曲线；

所述监控模块(20)用于获取所有工艺数据与拟合曲线的残差，通过每一工艺数据对应的残差判断每一工艺数据为正常工艺数据或异常工艺数据，从而判断与每一工艺数据对应的显示面板为正常显示面板或异常显示面板。

7.如权利要求6所述的工艺数据监控系统，其特征在于，所述多个第一工艺数据满足3sigma规则的正态分布。

8.如权利要求6所述的工艺数据监控系统，其特征在于，所述监控模块(20)通过主成分分析法获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子。

9.如权利要求6所述的工艺数据监控系统，其特征在于，所述监控模块(20)通过线性回归方程将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合。

10.如权利要求6所述的工艺数据监控系统，其特征在于，当残差大于一预设的阈值时，判断工艺数据为异常工艺数据；当残差小于或等于一预设的阈值时，判断工艺数据为正常工艺数据。