[发明专利]阻隔膜及其制备方法、量子点膜及其制备方法、电子器件

说明书

本发明公开了阻隔膜及其制备方法、量子点膜及其制备方法、电子器件。其中，阻隔膜包括基层以及设于基层表面的网络状底涂层，底涂层形成多个具有开口的网格，各网格内填充有用于阻隔水汽或氧气的阻隔树脂，底涂层的顶部的至少一部分未被阻隔树脂覆盖。在阻隔膜的基层上引入网络状的底涂层，将阻隔树脂填充在底涂层形成的网格内，从而在基层上获得了剥离力强弱交替的阻隔层，大幅提高了阻隔膜的剥离强度。

技术领域

本发明涉及量子点膜以及用于量子点膜的阻隔膜。

背景技术

量子点的粒径一般介于1～10nm之间，由于电子和空穴被量子限域，连续的能带结构变成具有分子特性的分立能级结构，受激后可以发射荧光。量子点具有激发光谱宽且连续分布、发射光谱窄而对称、颜色可调、光化学稳定性高、荧光寿命长等优越的荧光特性。可通过化学合成的方法控制量子点的尺寸，进而得到不同波长的光谱，且可通过控制粒度均匀性的方法控制半峰宽大小，得到颜色纯正的单色光。

目前量子点的商业化应用于主要集中在光致发光背光模组技术，该技术可显著提高色域和颜色饱和度，越来越多的显示终端产品选择使用量子点技术。目前主要的产品形式为量子点玻璃管和量子点膜，主要因为量子点对水气和氧气极为敏感，且量子点尺寸越小，比表面积越大，对水气和氧气的敏感性越高。玻璃管可以有效阻隔水氧，但是加工和运输过程易碎，需要增加单独开模费用，且随着显示技术朝无边框方向发展，其应用越来越受限制。而量子点膜具有生产工艺简单、可弯折、适用性强等优点成为越来越多显示终端的选择。量子点膜主要使用上下阻隔膜、中间为量子点胶层的三明治结构，传统的阻隔膜是在聚酯膜的基材上进行蒸镀、磁控溅射或真空化学沉积等方法铺设无机层(一般为氧化硅或者氧化铝)，再在无机层上面涂覆一层顶涂层，一方面保护无机层，另一方面降低了阻隔膜的表面粗糙度，提高与胶水的附着力。但是利用无机层做阻隔还存在以下缺点：(1)为了保证阻隔膜的可弯折性，无机层通常控制在数十纳米以下，导致阻隔效果较差；(2)采用蒸镀、磁控溅射或真空化学沉积等方法铺设无机层，设备投入成本大，工艺较为复杂，且制造成本较高；(3)无机层可能出现针孔，导致局部阻隔性变差，进而导致量子点失效，造成坏点；4)与无机材料结合力较高的顶涂层材料选择范围有限，且与大部分量子点胶水附着力差，需要再涂覆一层易接着层，增加了成本，且导致产线良率下降；(5)传统的阻隔膜存在剥离强度较差的隐患，一旦剥离强度减弱，水氧可能从边缘渗入量子点层，导致量子点失效，无效边增大。

为了克服无机阻隔层的缺点，现有技术中也有采用有机阻隔层代替无机阻隔层，但是有机阻隔层通常与基板的粘结强度弱，高温高湿条件下，有机阻隔膜也存在易剥离的隐患，同时影响阻隔膜的水氧阻隔效果，量子点膜侧面无效边加大，进而导致量子点膜失效。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种剥离强度高的阻隔膜及其制备方法。

本发明的另一个目的在于提供一种剥离强度高的量子点膜及其制备方法。

根据本发明的一个方面，提供一种用于量子点膜的阻隔膜，包括基层以及设于所述基层表面的网络状底涂层，所述底涂层形成多个具有开口的网格，各所述网格内填充有用于阻隔水汽或氧气的阻隔树脂，所述底涂层的顶部的至少一部分未被所述阻隔树脂覆盖。

在其中一个实施例中，每一所述网格包括用于界定其自身的限定侧壁，所述限定侧壁的顶部界定所述网格的开口，至少部分所述网格内的所述阻隔树脂边缘的高度不超过相邻的所述限定侧壁的高度。

在其中一个实施例中，所述底涂层的材料选自聚氨酯、聚丙烯酸酯、硅烷偶联剂中的一种或多种，优选地，所述底涂层的表面硬度为邵A30～邵D70。

在其中一个实施例中，所述阻隔树脂为阻氧树脂，其选自以下一种或多种：聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物、醋酸纤维素、聚乙烯吡咯烷酮、硝酸纤维素；或者所述阻隔树脂为阻水材料，其选自以下一种或多种：聚偏氯乙烯、聚三氟氯乙烯、环烯烃共聚物、氟化物、乙烯-醋酸乙烯共聚物。