[发明专利]阻隔膜及其制备方法、量子点膜及其制备方法、电子器件

权利要求书

1.一种量子点膜，包括量子点层以及设于所述量子点层两侧的膜层，所述量子点层包括量子点和承载所述量子点的树脂基体，其特征在于，至少一所述膜层为阻隔膜，所述阻隔膜包括基层以及设于所述基层表面的网络状底涂层，所述底涂层形成多个具有开口的网格，各所述网格内填充有用于阻隔水汽或氧气的阻隔树脂，所述底涂层的顶部的至少一部分未被所述阻隔树脂覆盖，所述量子点层的同一侧表面既与所述阻隔膜的所述底涂层的顶面的至少一部分连接，还与所述网格内的所述阻隔树脂连接，且所述量子点层与所述底涂层之间的连接比所述量子点层与所述阻隔树脂之间的连接强。

2.根据权利要求1所述的量子点膜，其特征在于，每一所述网格包括用于界定其自身的限定侧壁，所述限定侧壁的顶部界定所述网格的开口，至少部分所述网格内的所述阻隔树脂边缘的高度不超过相邻的所述限定侧壁的高度。

3.根据权利要求1或2所述的量子点膜，其特征在于，所述底涂层的材料选自聚氨酯、聚丙烯酸酯、硅烷偶联剂中的一种或多种。

4.根据权利要求3所述的量子点膜，其特征在于，所述底涂层的表面硬度为邵A30～邵D70。

5.根据权利要求1或2所述的量子点膜，其特征在于，所述阻隔树脂为阻氧树脂，其选自以下一种或多种：聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物、醋酸纤维素、聚乙烯吡咯烷酮、硝酸纤维素；或者所述阻隔树脂为阻水材料，其选自以下一种或多种：聚偏氯乙烯、聚三氟氯乙烯、环烯烃共聚物、氟化物、乙烯-醋酸乙烯共聚物。

6.根据权利要求1所述的量子点膜，其特征在于，所述阻隔膜的制备方法包括以下步骤：

A，在一基层上呈网络状地设置第一树脂，所述第一树脂固化后形成具有多个网格的网络状底涂层；

B，在所述底涂层上设置第二树脂；

C，使所述第二树脂进入各所述网格内，且使得所述底涂层的至少部分顶部露出；

D，固化所述第二树脂，以形成阻隔树脂。

7.根据权利要求6所述的量子点膜，其特征在于，所述步骤A中，设置所述第一树脂的方式为丝印、打印或刮涂；所述步骤B中，设置所述第二树脂的方式为丝印、打印或刮涂。

8.根据权利要求6所述的量子点膜，其特征在于，所述步骤A中，所述第一树脂的粘度为10～10000cps。

9.根据权利要求8所述的量子点膜，其特征在于，所述第一树脂的粘度为30～1500cps。

10.根据权利要求6所述的量子点膜，其特征在于，所述步骤B中，所述第二树脂的粘度为100～1500cps。

11.根据权利要求6所述的量子点膜，其特征在于，所述步骤B中，在所述底涂层上整面设置所述第二树脂，所述步骤C包括：

C1，与各所述网格相对的所述第二树脂进入各所述网格内；

C2，除去所述底涂层顶部多余的所述第二树脂，以使得所述底涂层的至少部分顶部露出。

12.一种如权利要求1-11任一所述的量子点膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1，提供如权利要求1-11任一所述的量子点膜中的阻隔膜；

S2，于所述步骤S1提供的一所述阻隔膜上设置量子点胶水，然后于所述量子点胶水上再设置一所述步骤S1提供的所述阻隔膜；

S3，固化所述量子点胶水，形成量子点膜。

13.一种电子器件，其特征在于，包括如权利要求1-11所述的量子点膜或由权利要求12所述的方法制备的量子点膜。