[发明专利]一种电子元器件外观检测装置

权利要求书

1.一种电子元器件外观检测装置，其特征在于，该装置包括图像获取模块、图像处理模块和外观质量判定模块；

所述图像获取模块用于获取待检测的电子元器件的外观图像，并将其发送至图像处理模块；

所述图像处理模块用于对所述外观图像进行处理，获取所述外观图像中包含的电子元器件的轮廓信息，并将所述轮廓信息发送至外观质量判定模块；

所述外观质量判定模块用于将所述轮廓信息与标准的轮廓信息进行对比，判断所述待检测的电子元器件的外观质量是否合格；

所述图像获取模块包括一照明单元，所述照明单元用于在光照不足时为所述图像获取模块提供光照；

所述电子元器件外观检测装置还包括存储模块和信息更新模块，所述信息更新模块与云服务器相连接，所述云服务器上存储着电子元器件的标准轮廓信息以及质量合格标准，所述信息更新模块按照预定的更新间隔，将所述标准轮廓信息以及质量合格标准下载到所述存储模块，并将旧的标准轮廓信息以及质量合格标准进行删除，所述存储模块与所述外观质量判定模块电性连接；

所述图像处理模块包括图像增强单元、灰度值调整单元、二值化处理单元和轮廓提取单元；

所述图像增强单元，用于对所述外观图像进行图像增强处理；

所述灰度值调整单元，用于对经过图像增强处理的外观图像进行灰度值调整；

所述二值化处理单元用于对经过灰度值调整的外观图像进行二值化处理；

所述轮廓提取单元用于对经过二值化处理的外观图像进行轮廓提取；

所述图像增强单元包括第一处理子单元、第二处理子单元、第三处理子单元和第四处理子单元；

所述第一处理子单元用于对所述外观图像进行小波分解，获取其高频系数和低频系数；

所述第二处理子单元用于采用自定义的函数对所述高频系数进行处理，获得经过处理的高频系数；

所述第三处理子单元用于采用自定义的算法对低频系数进行处理，获得经过处理的低频系数和第二高频系数；

所述第四处理子单元用于根据经过处理的高频系数和第二高频系数，通过重构获得图像增强后的外观图像；

所述对所述外观图像进行小波分解，获取其高频系数和低频系数，包括：

采用下述式子对所述外观图像进行灰度化处理：

GS(a,b)＝δ₁R(a,b)+δ₂G(a,b)+δ₃B(a,b)

式中，GS(a,b)表示外观图像中第a行第b列的像素点的灰度值，δ₁、δ₂、δ₃分别表示红、绿、蓝三种基色分量预设的权重值，R(a,b)、G(a,b)、B(a,b)分别表示外观图像中第a行第b列的像素点，其中a∈[1,O],b∈[1,P]，O、P分别表示所述外观图像纵向和横向的像素点的总数；所述外观图像的像素点总数为O×P；

采用下面的函数获取所述外观图像的高频系数：

采用下面的函数获取所述外观图像的低频系数：

式中，为二维小波变换的尺度函数，COHF_var(sca,o,p)表示所述外观图像的高频系数，α₁+α₂＝1，α₁和α₂为预设的权重参数；adjp为预设的调整参数；var∈[S,C,D]，S,C,D分别表示在二维小波变换中HL，LH，HH这三个区域的子带图，sca为函数所采用的尺度参数，g(v,w)为预设的离散函数，v,w为离散函数中的变量，o,p为分别相对v,w的偏差量，所述外观图像的像素点总数为O×P，表示小波细节函数；

所述采用自定义的函数对所述高频系数进行处理，获得经过处理的高频系数，包括：

采用下述式子对所述高频系数进行处理：

式中，afCOHF为经过处理的高频系数，COHF_var(sca,o,p)为小波分解获得的高频系数，表tha和thb为设定的阈值参数，sgn为符号函数。

2.如权利要求1所述的电子元器件外观检测装置，其特征在于，所述采用自定义的算法对低频系数进行处理，获得经过处理的低频系数和第二高频参数，包括：

采用下面的函数对所述低频系数进行处理：

式中，β₁和β₂为预设的低频系数处理权重，afCOLF为经过处理的低频系数，X(o,p,v,w)为设定的核函数，其中，BAP为预设的灰度级参数，FWP为窗口滤波参数，表示以正在处理的像素点为重心，边长为FWP个像素点的正方形窗口；E为规整化参数，k∈[1.K]，k为对低频系数进行滤波时采用的区域窗口的总数，nwp_k为区域窗口k中像素点的总数，η_k为区域窗口k中所有像素点灰度值的标准差，pjg_k为区域窗口k中所有像素点的灰度值的平均数，d_k＝pjg_k-c_kη_k；

对经过处理的低频系数afCOLF再次进行小波分解，获得第二高频系数afCOLF2。