[发明专利]一种离型剂、含有该离型剂的非硅离型膜及其制造方法

权利要求书

1.一种离型剂，其特征在于，所述离型剂的主成分为含聚乙烯酯基化合物，其分子式为：

其中， X为大于0的正整数，

其中R为：-CnHm、-OCOCnHm、-OCONHCnHm 中任意一种或一种以上结构式, m是3-50 ,n是1-30，(m、n均为整数)。

2.根据权利要求1所述一种离型剂，其特征在于，离型剂包括如下组分：聚乙烯酯基化合物、偶联剂、溶剂。

3.根据权利要求2所述一种离型剂，其特征在于，所述溶剂为甲苯、二甲苯、异丙醇、庚烷的混合物。

4.根据权利要求3所述一种离型剂，其特征在于，所述离型剂中各组分的重量配比如下：聚乙烯酯基化合物 0.3-10wt% 、偶联剂0.1-5wt%、甲苯1-15wt%、二甲苯1-15wt%、异丙醇5-30wt%、庚烷25-60wt%。

5.根据权利要求4所述一种离型剂，其特征在于，所述离型剂中各组分的重量配比如下：聚乙烯酯基化合物 0.5-10wt% 、偶联剂0.1-1wt%，甲苯10-15wt%、二甲苯10-15wt%、异丙醇10-30wt%、庚烷30-60wt%。

6.一种非硅离型膜，其特征在于，包括基材和采用权利要求1-5所述的离型剂涂覆在基材上形成的离型层。

7.根据权利要求6所述的一种非硅离型膜，其特征在于，所述基材为PET薄膜，雾度≤10%，厚度为20um-150um，离型层厚度为50-500nm。

8.如权利要求6所述一种非硅离型膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1.清理基材表面的杂质，并对基材进行除静电处理；

S2.在基材的一面涂布离型剂形成离型层，离型剂涂布湿量为2-8g/m²；

S3.对离型层进行烘烤，烘烤温度为60℃-130℃，烘烤时间为10秒-3分钟。