[发明专利]抽排间隙调整装置、光刻设备及抽排间隙调整方法

说明书

本发明涉及一种抽排间隙调整装置、光刻设备及抽排间隙调整方法，所述抽排间隙调整装置包括运动框架、固定框架以及调整单元，运动框架相对于固定框架作往复运动，调整单元设置于运动框架与固定框架之间，以调整运动框架与固定框架之间的间隙的密封程度。本发明可将运动框架与固定框架之间的间隙进行动态密封，有利于将运动框架与固定框架之间的间隙调整到所需要的最小程度，甚至可以实现完全密封，从而极大地提升热量的抽排效率。

技术领域

本发明涉及光刻设备技术领域，尤其涉及一种抽排间隙调整装置、光刻设备及抽排间隙调整方法。

背景技术

在光刻设备中，曝光台的下方设置平衡质量体，平衡质量体由气浮垫支撑在固定框架的上方，曝光台运动时产生的热量由固定框架内设置的风扇抽排到外界。平衡质量体与固定框架之间的间隙大小，会直接影响到热量的抽排效果，间隙越小，被抽排的热量越多，抽排效果越好。然而，曝光台在实际使用中，很难保证平衡质量体与固定框架之间的间隙为较小值，实际能达到的标准通常为几毫米，以至于影响了抽排效果。

因此需要设计特定的结构以减小平衡质量体与固定框架之间的间隙，从而改善热量抽排效果。

发明内容

本发明的目的在于提供一种抽排间隙调整装置，有利于减小平衡质量体与固定框架之间的间隙。

为了达到上述目的，本发明提供了一种抽排间隙调整装置，包括运动框架、固定框架以及调整单元，所述运动框架相对于所述固定框架作往复运动，且所述运动框架的底部与所述固定框架的顶部之间具有间隙，所述调整单元设置于所述运动框架与所述固定框架之间，以调整所述运动框架与所述固定框架之间的所述间隙的密封程度。

可选的，所述运动框架包括顶板、侧板及底板，所述侧板与所述底板形成一抽排腔，所述底板上设置有第一出风口，所述第一出风口与所述抽排腔连通，所述固定框架上设置有第二出风口，所述第二出风口与所述第一出风口连通。

可选的，所述调整单元包括密封圈和防护板，所述防护板设置于所述固定框架上并位于所述第一出风口与所述第二出风口之间，所述密封圈设置于所述底板上，且所述密封圈被所述运动框架压紧于所述防护板上。

可选的，所述底板靠近所述固定框架的一侧环绕所述第一出风口设置有卡槽，所述密封圈卡设于所述卡槽内。

可选的，所述防护板的中心设置有通风孔，所述通风孔对准所述第一出风口及所述第二出风口。

可选的，所述调整单元包括密封件和多个调整螺钉，所述密封件设置于所述底板上，多个所述调整螺钉设置于所述密封件上，旋转所述调整螺钉使所述密封件沿所述第一出风口的轴向方向运动。

可选的，所述密封件包括第一部、第二部及连接所述第一部与所述第二部的连接部，所述连接部设置于所述第一出风口中，所述第一部位于所述抽排腔中且架设于所述底板上，所述第二部位于所述第一出风口与所述第二出风口之间。

可选的，所述调整单元还包括多个锁紧螺钉，所述密封件的第一部上周向设置有多个通孔，多个所述锁紧螺钉穿过多个所述通孔并旋入所述底板中，以固定所述密封件的位置。

可选的，所述调整单元还包括多个导向柱，所述密封件的第一部上周向设置有多个导向孔，多个所述导向柱对应设置于多个所述导向孔中并与所述底板连接，以限定所述密封件沿所述第一出风口的轴向方向运动。

可选的，所述第一出风口的内壁与所述连接部的外壁之间的距离小于0.5mm，以限定所述密封件沿所述第一出风口的轴向方向运动。

本发明还提供了一种光刻设备，包括曝光台及如上所述的抽排间隙调整装置，所述抽排间隙调整装置调整所述运动框架与所述固定框架之间的间隙的密封程度，以提升对所述曝光台在运动时产生的热量进行抽排的效率。

本发明还提供了一种抽排间隙调整方法，采用如上所述的抽排间隙调整装置调整运动框架与固定框架之间的间隙的密封程度。