[发明专利]抽排间隙调整装置、光刻设备及抽排间隙调整方法

权利要求书

1.一种抽排间隙调整装置，其特征在于，包括运动框架、固定框架以及调整单元，所述运动框架相对于所述固定框架作往复运动，且所述运动框架的底部与所述固定框架的顶部之间具有间隙，所述调整单元设置于所述运动框架与所述固定框架之间，以调整所述运动框架与所述固定框架之间的所述间隙的密封程度；所述运动框架包括底板，所述调整单元包括密封圈和防护板，所述防护板设置于所述固定框架上，所述密封圈设置于所述底板上，且所述密封圈被所述运动框架压紧于所述防护板上。

2.如权利要求1所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述运动框架包括顶板及侧板，所述侧板与所述底板形成一抽排腔，所述底板上设置有第一出风口，所述第一出风口与所述抽排腔连通，所述固定框架上设置有第二出风口，所述第二出风口与所述第一出风口连通。

3.如权利要求2所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述防护板位于所述第一出风口与所述第二出风口之间。

4.如权利要求3所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述底板靠近所述固定框架的一侧环绕所述第一出风口设置有卡槽，所述密封圈卡设于所述卡槽内。

5.如权利要求3所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述防护板的中心设置有通风孔，所述通风孔对准所述第一出风口及所述第二出风口。

6.一种抽排间隙调整装置，其特征在于，包括运动框架、固定框架以及调整单元，所述运动框架相对于所述固定框架作往复运动，且所述运动框架的底部与所述固定框架的顶部之间具有间隙，所述调整单元设置于所述运动框架与所述固定框架之间，以调整所述运动框架与所述固定框架之间的所述间隙的密封程度；所述运动框架包括底板，所述调整单元包括密封件和多个调整螺钉，所述密封件设置于所述底板上，多个所述调整螺钉设置于所述密封件上，旋转所述调整螺钉使所述密封件沿轴向方向运动。

7.如权利要求6所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述运动框架包括顶板及侧板，所述侧板与所述底板形成一抽排腔，所述底板上设置有第一出风口，所述第一出风口与所述抽排腔连通，所述固定框架上设置有第二出风口，所述第二出风口与所述第一出风口连通。

8.如权利要求7所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述密封件包括第一部、第二部及连接所述第一部与所述第二部的连接部，所述连接部设置于所述第一出风口中，所述第一部位于所述抽排腔中且架设于所述底板上，所述第二部位于所述第一出风口与所述第二出风口之间。

9.如权利要求8所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述调整单元还包括多个锁紧螺钉，所述密封件的第一部上周向设置有多个通孔，多个所述锁紧螺钉穿过多个所述通孔并旋入所述底板中，以固定所述密封件的位置。

10.如权利要求9所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述调整单元还包括多个导向柱，所述密封件的第一部上周向设置有多个导向孔，多个所述导向柱对应设置于多个所述导向孔中并与所述底板连接，以限定所述密封件沿所述第一出风口的轴向方向运动。

11.如权利要求9所述的抽排间隙调整装置，其特征在于，所述第一出风口的内壁与所述连接部的外壁之间的距离小于0.5mm，以限定所述密封件沿所述第一出风口的轴向方向运动。

12.一种光刻设备，其特征在于，包括曝光台及如权利要求1-11中任一项所述的抽排间隙调整装置，所述抽排间隙调整装置调整所述运动框架与所述固定框架之间的间隙的密封程度，以提升对所述曝光台在运动时产生的热量进行抽排的效率。

13.一种抽排间隙调整方法，其特征在于，采用如权利要求1-5中任一项所述的抽排间隙调整装置调整运动框架与固定框架之间的间隙的密封程度，通过所述密封圈对所述运动框架与所述固定框架之间进行密封。

14.一种抽排间隙调整方法，其特征在于，采用如权利要求6-11中任一项所述的抽排间隙调整装置调整运动框架与固定框架之间的间隙的密封程度，通过旋转所述调整螺钉使所述密封件沿轴向方向运动，以调整所述运动框架与所述固定框架之间的密封程度。